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J-GLOBAL ID：201702244194127380   整理番号：17A0634899

太陽電池及びその他の素子用にRFスパッタしたZnO薄膜の厚さの均一性及び光学的/構造的評価

Thickness uniformity and optical/structural evaluation of RF sputtered ZnO thin films for solar cell and other device applications

著者 (6件)： ORTIZ Thiara (Univ. North Carolina at Charlotte, NC, USA) ,  CONDE Crystal (Univ. North Carolina at Charlotte, NC, USA) ,  KHAN Taj M. (National Inst. Lasers and Optronics, Islamabad, PAK) ,  KHAN Taj M. (Trinity Coll. Dublin(TCD), Dublin, IRL) ,  HUSSAIN Babar (Univ. North Carolina at Charlotte, NC, USA) ,  HUSSAIN Babar (National Inst. Lasers and Optronics, Islamabad, PAK)
資料名： Applied Physics. A. Materials Science & Processing  (Applied Physics. A. Materials Science & Processing)
巻： 123  号： 4  ページ： 280,1-6  発行年： 2017年04月 
JST資料番号： D0256C  ISSN： 0947-8396  CODEN： APHYCC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： サファイア基板上にRFマグネトロンスパッタリングにより作製したZnO薄膜の厚さの空間的均一性及び光学的品質を実験的に見積もった。その結果,マグネトロンスパッタリングにより作製したZnO薄膜は,有機金属化学気相蒸着(MOCVD)により同じ基板上に成長させたZnO薄膜に比較して,空間的厚み分布がより均一であることが確認された。著者らの解析に基づくと,スパッタZnO膜は総体的に,MOCVD膜よりも改善された光学的品質を示した。この発見は,太陽電池や他の光学素子用薄膜作製に役立つ。Si基板上にZnOをスパッタすることで,n-ZnO/p-Si太陽電池を作ることや,原子間力顕微鏡(AFM)を用いて表面形態における差を評価する実験的研究も考慮中である。

シソーラス用語： *スパッタ蒸着 ,  *酸化亜鉛 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  基板 ,  化合物半導体 ,  半導体薄膜 ,  *厚み ,  均一性 ,  反射率 ,  *光学定数 ,  光ルミネセンス ,  紫外発光スペクトル ,  *光学ギャップ ,  MOCVD
準シソーラス用語： *RFマグネトロンスパッタリング ,  サファイア基板

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (7件)： 太陽電池 ,  RFスパッタ ,  ZnO薄膜 ,  厚さ ,  均一性 ,  光学 ,  評価