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J-GLOBAL ID：201702244280898732   整理番号：17A0445694

水性KOH溶液中でのタンタルの電気化学的挙動の評価【Powered by NICT】

Electrochemical behavior assessment of tantalum in aqueous KOH solutions

著者 (5件)： Fattah-Alhosseini Arash (Department of Materials Engineering, Bu-Ali Sina University, Hamedan 65178-38695, Iran) ,  Attarzadeh Farid Reza (Research Institute of Petroleum Industry, Corrosion division, Tehran, 14857-33111, Iran) ,  Vafaeian Saeed (Department of Materials Engineering, Bu-Ali Sina University, Hamedan 65178-38695, Iran) ,  Haghshenas Meysam (Department of Mechanical Engineering, University of North Dakota, Grand Forks, USA) ,  Keshavarz Mohsen K. (Department of Mechanical Engineering, Polytechnique Montreal, Montreal, Canada)
資料名： International Journal of Refractory Metals & Hard Materials  (International Journal of Refractory Metals & Hard Materials)
巻： 64  ページ： 168-175  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0059B  ISSN： 0263-4368  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,種々の電気化学的方法を用いた0.01から1mの範囲で様々な濃度のKOH溶液中でのタンタルの受動的および電気化学的挙動を研究した。電気化学インピーダンス分光法(EIS)の結果は,タンタル上に形成した不動態膜はKOH濃度を添加したときのその保護を失うことを示した。,不動態は高いKOH濃度に向かって移動する劇的な変化を受ける。タンタル上に形成した不動態膜の半導体的挙動は,点欠陥モデル(PDM)と連携してMott-Schottky解析を用いて調べた。半導性挙動はn型と同じであるが,KOH濃度はドナー密度のレベルに大きく影響する。さらに,Mott-Schottky分析は,フラットバンド電位はKOH濃度に極めて敏感であることを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 半導性 ,  *電気化学的挙動 ,  不動態 ,  ドナー ,  *電気化学 ,  半導体 ,  電位 ,  点欠陥 ,  *タンタル ,  不動態皮膜
準シソーラス用語： フラットバンド ,  電気化学インピーダンス分光法 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： タンタル ,  不動態皮膜 ,  EIS ,  Mott-Schottky ,  アルカリ解

分類 (2件)： 腐食  (WB03030B) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (5件)： KOH ,  溶液 ,  タンタル ,  電気化学的挙動 ,  評価