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J-GLOBAL ID：201702244767884361   整理番号：17A1436282

ナトリウム注入ポリエチレンテレフタレートの飛行時間質量分析による深さプロファイリング【Powered by NICT】

Time-of-flight mass spectrometry depth profiling of sodium-implanted polyethylene terephthalate

著者 (4件)： Kudriavtsev Yu (Departamento Ingenieria Electrica-SEES, CINVESTAV-IPN, Mexico, 07360, Mexico) ,  Hernandez A.G. (Departamento Ingenieria Electrica-SEES, CINVESTAV-IPN, Mexico, 07360, Mexico) ,  Asomoza R. (Departamento Ingenieria Electrica-SEES, CINVESTAV-IPN, Mexico, 07360, Mexico) ,  Korol V.M. (Southern Federal University, Rostov-na-Dony, Russia)
資料名： Surface and Interface Analysis  (Surface and Interface Analysis)
巻： 49  号： 10  ページ： 1049-1052  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0709A  ISSN： 0142-2421  CODEN： SIANDQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナトリウム(Na)を注入したポリエチレンテレフタレートの深さプロファイリング分析は,セシウム付着領域における飛行時間二次イオン質量分析を用いて行った。いくつかの元素の拡散と脱出,酸素および水素のような,上部550nm層の炭化による主要素のラジカル再分布が観察された。注入ナトリウムの深さ分布はモンテカルロシミュレーション法(TRIMコード)を用いて計算した「理論的」分布から根本的に異なることが分かった。が大きいクラスタ一次イオンビームを用いずに「標準」二次イオン質量分析領域中に注入されたポリマの有効深さプロファイリング分析が可能であることを結論した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： クラスタ ,  再分布 ,  *深さプロフィル ,  イオンビーム ,  酸素 ,  *ナトリウム ,  深さ分布 ,  セシウム ,  水素 ,  *ポリエチレンテレフタレート ,  付着 ,  ラジカル
準シソーラス用語： モンテカルロシミュレーション ,  TOF-SIMS ,  *TOF-MS , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： A FM ,  CsM+ ,  イオン注入 ,  PET ,  SIMS

分類 (2件)： 固体の表面構造一般  (BK15010E) ,  質量分析  (CC03013N)

タイトルに関連する用語 (5件)： ナトリウム ,  注入 ,  ポリエチレンテレフタレート ,  飛行時間質量分析 ,  深さプロファイリング