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J-GLOBAL ID:201702244815507159   整理番号:17A0388469

しわ不安定性によるペロブスカイト高分子膜のパターン形成【Powered by NICT】

Patterning of perovskite-polymer films by wrinkling instabilities
著者 (13件):
資料名:
巻: 13  号:ページ: 1654-1659  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2327A  ISSN: 1744-683X  CODEN: SMOABF  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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有機-無機ペロブスカイトは,オプトエレクトロニクスと太陽光発電などの応用に使われる半導体である。ミクロンおよびサブミクロンペロブスカイトパターンは,半透明太陽電池とレーザ発振への応用について調査した。本研究では,高分子媒質は,パターン化したペロブスカイトを作成するために用い,新規で安価なアプローチを用いてできることを示した。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
分類
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高分子固体の構造と形態学  ,  コロイド化学一般  ,  有機化合物の薄膜 
タイトルに関連する用語 (5件):
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