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J-GLOBAL ID：201702245175440012   整理番号：17A1140231

HF溶液中の多孔質シリコンナノ構造の光支援溶解の光伝導による追跡

Photo-Assisted Dissolution of Porous Silicon Nanostructures in HF Solutions Monitored by Photoconduction

著者 (4件)： GELLOZ Bernard (Nagoya Univ.) ,  FUWA Hiroki (Univ. of yamanashi) ,  KONDOH Eiichi (Univ. of yamanashi) ,  JIN Lianhua (Univ. of yamanashi)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 78th  ページ： ROMBUNNO.6p-S44-12  発行年： 2017年08月25日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *多孔質シリコン ,  *ナノ構造 ,  *フッ化水素 ,  電解エッチング ,  *溶解 ,  *光照射 ,  光伝導 ,  キャリア生成 ,  *溶解速度 ,  *光電流 ,  ウェットエッチング
準シソーラス用語： フッ化水素酸 ,  化学エッチング

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光伝導,光起電力  (BM03050J)

タイトルに関連する用語 (8件)： HF ,  溶液 ,  多孔質シリコン ,  ナノ構造 ,  支援 ,  溶解 ,  光伝導 ,  追跡