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J-GLOBAL ID:201702245668877234   整理番号:17A0880397

張力下のフレキシブル基板上の破壊機構と化学気相堆積グラフェンの電気機械的挙動【Powered by NICT】

Fracture mechanism and electromechanical behavior of chemical vapor deposited graphene on flexible substrate under tension
著者 (7件):
資料名:
巻: 118  ページ: 475-484  発行年: 2017年 
JST資料番号: H0270B  ISSN: 0008-6223  CODEN: CRBNA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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高分子基板に移された化学蒸着グラフェンの電気機械的特性を走査電子顕微鏡内で電気抵抗測定と組み合わせた引張試験を行って調べた。著者らの結果は,グラフェンは弱いvan der Waals力によって基板に付着し,グラフェン/高分子基板のユニークな界面接着特性によって,引張歪み付与中の亀裂端部周辺領域における界面滑りを生じさせ,グラフェンへの基板からの歪移動の減少を引き起こすことを示し,これは遅延または予め形成された亀裂の成長を制限し,新しい亀裂の核形成を促進する。このような破壊機構(すなわち,亀裂機構)は密接に電気機械的挙動と関連した電気抵抗-歪曲線,すなわち段階I平坦領域,ステージII超線形領域とステージIII線形領域,明確な三段階特徴をもたらした。歪,摩擦力測定と結合熱-電気有限要素解析と亀裂サイズ分布の進化の統計解析を組み合わせることにより示唆された破壊機構の妥当性と電気機械的特性との相関を示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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炭素とその化合物 

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