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J-GLOBAL ID:201702245763677921   整理番号:17A0411961

低レベル放射性廃水の限外ろ過の間の低レベル陽イオン界面活性剤によるカチオンの除去促進【Powered by NICT】

Enhanced rejection of cations by low-level cationic surfactant during ultrafiltration of low-level radioactive wastewater
著者 (7件):
資料名:
巻: 175  ページ: 314-320  発行年: 2017年 
JST資料番号: T0428B  ISSN: 1383-5866  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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金属塩の排除に及ぼす陽イオン界面活性剤ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド(CTAB)の影響を低レベル放射性廃水(LLRW)の限外濾過中に調べた。臨界ミセル濃度(CMC)以下のCTABの存在下では,核種の除去は有意にCs(I)と90%以上の24%~ 33%から50%に増加したSr(II),Co(II),及びAg(I)であった。これら増加阻止率はCTABファウリング層,より親水性とより正に帯電した膜表面に起因している。汚損層に核種含有量はCTAB濃度の増加と共に増加し,Co(II),Sr(II),及びAg(I)の55 80%はCTAB400mg/Lで膜に吸着させた。Ag(I)の高蒸着したAgBrの形成に部分的に起因していた。これらの結果に基づいて,陽イオン界面活性剤の低レベルは,カチオンのUF排除率を有意に増強することができるが,膜ファウリングと核種堆積を無視すべきではない。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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吸着,イオン交換  ,  膜分離 
タイトルに関連する用語 (5件):
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