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J-GLOBAL ID：201702245774562391   整理番号：17A0750836

パルスレーザ蒸着によるYAG:Ce薄膜蛍光体膜の調製と特性化【Powered by NICT】

Preparation and characterization of YAG:Ce thin phosphor films by pulsed laser deposition

著者 (10件)： Ma Rui (College of Chemistry and Enviromental Engineering, Shenzhen University, Shenzhen, 518060, China) ,  Lu Bing (College of Chemistry and Enviromental Engineering, Shenzhen University, Shenzhen, 518060, China) ,  Cao Huiqun (College of Chemistry and Enviromental Engineering, Shenzhen University, Shenzhen, 518060, China) ,  Hu Juguang (College of Physics Science and Technology, Shenzhen University, Shenzhen, 518060, China) ,  Zhang Xianghua (College of Chemistry and Enviromental Engineering, Shenzhen University, Shenzhen, 518060, China) ,  Zhang Xianghua (Laboratory of Glasses and Ceramics, Institute of Chemical Science, University of Rennes 1, Rennes, 35042, France) ,  Qiu Qi (College of Chemistry and Enviromental Engineering, Shenzhen University, Shenzhen, 518060, China) ,  Zheng Ruisheng (College of Optoelectronic Engineering, Shenzhen University, Shenzhen, 518060, China) ,  Luo Zhongkuan (College of Chemistry and Enviromental Engineering, Shenzhen University, Shenzhen, 518060, China) ,  Xue Bai (College of Chemistry and Enviromental Engineering, Shenzhen University, Shenzhen, 518060, China)
資料名： International Journal of Applied Ceramic Technology  (International Journal of Applied Ceramic Technology)
巻： 14  号： 1  ページ： 22-30  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1929A  ISSN： 1546-542X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： YAG:Ce~3+蛍光体膜の結晶タイプとスペクトル特性に及ぼす加熱温度,ターゲット-基板距離,アニーリング時間,アニーリング雰囲気の影響を含むパルスレーザ蒸着により薄く透明な蛍光体膜を作製するための原料としてYAG:Ce蛍光体の使用を報告する。結果は,350°Cの温度で,YAG:Ce~3+蛍光体膜は無傷膜と最大蛍光発光を有する最高の結晶性を有することを示した。膜の結晶性と蛍光発光強度はターゲット-基板距離の増加の関数として徐々に減少した。アニーリング時間が増加すると,結晶性と膜の蛍光発光強度は最初に増加し,その後減少した。5時間のアニーリングで作製した膜が最良の結晶性と最も高い蛍光発光強度を示した。空気中でアニールした膜の結晶度は窒素下で作製したものより高かった。空気下での膜の蛍光強度は窒素下での膜より僅かに低かった。450nmで励起した場合,作製した膜の発光ピークは523nmであった。これは市販蛍光体粉末の発光とわずかに青方偏移した。本研究では,透明な蛍光体膜の開発のための理論的基礎を提供する。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *キャラクタリゼーション ,  焼なまし ,  *パルスレーザ蒸着 ,  発光 ,  結晶 ,  *薄膜 ,  粉体 ,  結晶度 ,  *蛍光体 ,  青方偏移 ,  加熱温度
準シソーラス用語： 蛍光強度 ,  蛍光発光 ,  スペクトル特性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： パルスレーザ蒸着 ,  YAG:Ce ,  薄膜 ,  蛍光体 ,  蛍光特性

分類 (2件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  無機化合物のルミネセンス  (BM08093J)

タイトルに関連する用語 (7件)： パルスレーザ蒸着 ,  YAG ,  Ce ,  薄膜 ,  蛍光体膜 ,  調製 ,  特性化