文献

J-GLOBAL ID：201702246312460408   整理番号：17A1475004

カンファーフルスルホン酸の存在下でのアミン保護ジフェニルメチル基の酸性溶媒フリー除去

Acidic Solvent-free Removal of Amine-protecting Diphenylmethyl Groups in the Presence of Camphorsulfonic Acid

著者 (4件)： Yamagiwa Noriyuki (Faculty of Pharmacy, Takasaki University of Health and Welfare) ,  Okabe Takayuki (Faculty of Pharmacy, Takasaki University of Health and Welfare) ,  Suto Yutaka (Faculty of Pharmacy, Takasaki University of Health and Welfare) ,  Iwasaki Genji (Faculty of Pharmacy, Takasaki University of Health and Welfare)
資料名： Chemistry Letters  (Chemistry Letters)
巻： 46  号： 10  ページ： 1456-1458(J-STAGE)  発行年： 2017年 
JST資料番号： S0742A  ISSN： 0366-7022  CODEN： CMLTAG  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アミンの最も重要な保護基の一つである,ジフェニルメチル基の除去のための新しい反応条件を開発した。この反応は水性媒質中で1当量のカンファースルホン酸を加えることによって促進され,酸性溶媒は必要なかった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *架橋化合物 ,  *脂環式ケトン ,  *二環モノテルペン ,  *スルホン酸 ,  *アミン ,  *基 ,  酸性 ,  *脱保護基 ,  溶媒 ,  条件 ,  温度依存性 ,  マイクロ波照射 ,  陽子磁気共鳴
準シソーラス用語： 反応条件 ,  *保護基

著者キーワード (3件)： Deprotection ,  Diphenylmethyl group ,  Camphorsulfonic acid

分類 (2件)： モノテルペン,セスキテルペン  (CF10022A) ,  付加反応,脱離反応  (CF02030M)

物質索引 (3件)： カンファースルホン酸 ,  N-ベンジル-N-(ジフェニルメチル)-2-フェニルエタンアミン ,  N-ベンジル-2-フェニルエタンアミン

引用文献 (22件)：

• 1) P. G. M. Wuts, Greene’s Protective Groups in Organic Synthesis, 5th ed., John Wiley & Sons Inc., 2014.
• 2) L. Lapatsanis, G. Milias, S. Paraskewas, Synthesis 1985, 513.
• 3) G. Jackson, H. F. Jones, S. Petursson, J. M. Webber, Carbohydr. Res. 1982, 102, 147.
• 4) E. K. Baylis, C. D. Campbell, J. G. Dingwall, J. Chem. Soc., Perkin Trans. 1 1984, 2845.
• 5) For example: a) L. E. Overman, L. T. Mendelson, E. J. Jacobsen, J. Am. Chem. Soc. 1983, 105, 6629.

タイトルに関連する用語 (6件)： 酸 ,  アミン ,  ジフェニル ,  メチル基 ,  酸性 ,  溶媒フリー