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J-GLOBAL ID：201702246394729537   整理番号：17A0330480

放電プラズマによるフェノールの分解経路の決定のための量子化学法

Quantum Chemical Approach for Determining Degradation Pathways of Phenol by Electrical Discharge Plasmas

著者 (4件)： FAN Xiangru (Clarkson Univ., NY, USA) ,  MCLAUGHLIN John B. (Clarkson Univ., NY, USA) ,  MELMAN Artem (Clarkson Univ., NY, USA) ,  THAGARD Selma Mededovic (Clarkson Univ., NY, USA)
資料名： Plasma Chemistry and Plasma Processing  (Plasma Chemistry and Plasma Processing)
巻： 37  号： 1  ページ： 5-28  発行年： 2017年01月 
JST資料番号： H0836A  ISSN： 0272-4324  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究で,密度汎関数理論(DFT)シミュレーションを使用して,OHラジカルがフェノールを化学的に転換する,主要経路を解明した。この計算は,温度が298Kとされるプラズマ-バルク液体界面での,直接におよび水と接触して生成した放電プラズマの反応に適用することを一義的に意図したが,本研究で同定された化学反応機構はどの高次酸化技術(AOT)に応用でき,Fenton反応および超音波化学に限定されない。計算された活性化エネルギーおよび反応速度から,フェノール環H引抜はOH付加反応より起り難く,オルソおよびパラ位置でもっとも速かった。そのように生成したオルソおよびパララジカルの分子状酸素によるチェーン伝搬はハイドロキノンおよびカテコールの生産となり,これらは共に,OHラジカルによるフェノール分解の最も有り得る生成物であった。

シソーラス用語： *密度汎関数法 ,  *プラズマ ,  放電 ,  分解反応 ,  量子化学 ,  *反応経路 ,  反応機構 ,  ヒドロキシルラジカル ,  活性化エネルギー ,  反応速度 ,  フェノール類 ,  多価フェノール
準シソーラス用語： *放電プラズマ

分類 (2件)： 無触媒反応一般  (CB06040N) ,  プラズマ応用  (BJ02110K)

物質索引 (3件)： フェノール ,  ハイドロキノン ,  カテコール【フェノール】

タイトルに関連する用語 (4件)： 放電プラズマ ,  フェノール ,  分解経路 ,  量子化学