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J-GLOBAL ID：201702246509502811   整理番号：17A0452239

グラフェン酸化物ナノシートによる水環境からの抗生物質耐性遺伝子のための効率的な除去機構【Powered by NICT】

Efficient removal mechanism for antibiotic resistance genes from aquatic environments by graphene oxide nanosheet

著者 (5件)： Yu Wenchao (Key Laboratory of Pollution Processes and Environmental Criteria (Ministry of Education), College of Environmental Science and Engineering, Nankai University, Tianjin 300071, China) ,  Zhan Sihui (Key Laboratory of Pollution Processes and Environmental Criteria (Ministry of Education), College of Environmental Science and Engineering, Nankai University, Tianjin 300071, China) ,  Shen Zhiqiang (Tianjin Institute of Health and Environmental Medicine, Tianjin 300050, China) ,  Zhou Qixing (Key Laboratory of Pollution Processes and Environmental Criteria (Ministry of Education), College of Environmental Science and Engineering, Nankai University, Tianjin 300071, China) ,  Yang Dong (Tianjin Institute of Health and Environmental Medicine, Tianjin 300050, China)
資料名： Chemical Engineering Journal  (Chemical Engineering Journal)
巻： 313  ページ： 836-846  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0723A  ISSN： 1385-8947  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,酸化グラフェン(GO)ナノシートにより二つの異なった分子構造(すなわち,環状(c)-および二本鎖(ds)-ARG)を有する四つの典型的なARGsの除去効率と機構を系統的に調べた。四つのARGの平均除去はC ARGsへの3.11logと300μg/mL GO溶液でds ARGsへの2.88logであった。吸着データはFreundlich等温式と擬二次速度モデルに良く適合した。見かけ吸着平衡は両C ARGsおよびds ARGsの15分以内に得られ,GOによる効果的な除去を示した。自由エネルギーパラメータは,除去プロセスは発熱反応であり,自発的であることを示した。遺伝的分子構造の構造的差異は除去不一致の原因となり得る。さらに,初期ARG濃度,pH及びイオン種を含むいくつかの除去係数も調べた。Ramanスペクトル,拡散反射赤外Fourier変換分光法(DRIFT)及び電気化学的分析の結果は,GOによるARGの吸着は,主にGOナノシートの酸素含有基とπ結合システムは芳香族核酸と強くπスタッキング相互作用と化学結合をもたらしたに起因することを示した。さらに,実際の水試料の詳細な検証試験を行い,ARGsの80%は天然水試料から除去することができた。その結果,ARGで汚染された水の効果的な治療のための新規な吸着剤としてのGOナノシートを適用する大きな可能性がある。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 分子構造 ,  Ramanスペクトル ,  発熱反応 ,  吸着剤 ,  吸着平衡 ,  *水試料 ,  吸着 ,  電気化学 ,  自由エネルギー ,  *ナノシート
準シソーラス用語： パイ結合 ,  速度モデル ,  Freundlich等温式 ,  除去効率 ,  *酸化グラフェン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 抗生物質抵抗性遺伝子 ,  GOナノシート ,  電気化学 ,  除去機構

分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  その他の無機工業薬品,無機材料  (YB02090K)

タイトルに関連する用語 (4件)： グラフェン酸化物 ,  ナノシート ,  水環境 ,  抗生物質耐性遺伝子