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J-GLOBAL ID:201702246943483155   整理番号:17A1506416

Ga,Alおよび(Al+Ga)をドープしたZnO薄膜の構造と光学的性質の特性化【Powered by NICT】

Characterization of the structural and optical properties of ZnO thin films doped with Ga, Al and (Al+Ga)
著者 (5件):
資料名:
巻: 725  ページ: 1238-1243  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0083A  ISSN: 0925-8388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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AlドープZnO(AZO),GaドープZnO(GZO)と共ドープしたAl+GaをドープしたZnO(AGZO)の透明薄膜をRFマグネトロンスパッタリングによりソーダ石灰ガラス上に堆積した。薄膜の構造と光学的性質に及ぼす酸化亜鉛(ZnO)膜中のアルミニウムとガリウム濃度の影響を調べた。XRDの結果は,得られた膜は六方晶ウルツ鉱型構造を持ち,基板表面に垂直に優先的に配向していることを示した。原子間力顕微鏡(A FM)は,ドーピング型が薄膜の微細構造を変化させることを証明した。Raman分光法は,局所レベルでの複雑な酸化物の構造特性を研究した。ドーパント量が増加すると光透過測定は,透明膜の僅かな減少を示した。AlとGa含有量の増加と共にAZO膜の光学バンドギャップのシフトは,キャリア濃度の増大を示唆した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 

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