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J-GLOBAL ID：201702247130140946   整理番号：17A0830922

プラズマ増強化学蒸着による食品加工業を目的とした織物の抗菌仕上げ-Al_xO_yまたはSiOCHカプセル化層で被覆したAg SiOCH複合材料の物理蒸着【Powered by NICT】

Antimicrobial finishing of textiles intended for food processing industry by plasma enhanced chemical vapor deposition - physical vapor deposition of Ag-SiOCH composites coated with Al_xO_y or SiOCH encapsulation layers

著者 (10件)： Brunon Celine (Univ Lyon, CNRS, Universite Claude Bernard Lyon 1, ENS de Lyon, Institut des Sciences Analytiques, UMR 5280, 5 rue de la Doua, F-69100 Villeurbanne, France) ,  Brunon Celine (Science et Surface, 64, Chemin des Mouilles, F-69130 Ecully, France) ,  Chadeau Elise (Univ Lyon, Universite Claude Bernard Lyon 1, ISARA Lyon, BioDyMIA (Bioingenierie et Dynamique Microbienne aux Interfaces Alimentaires), Equipe Mixte d’Accueil n°3733, IUT Lyon 1, Technopole Alimentec, rue Henri de Boissieu, F-01000 Bourg en Bresse, France) ,  Oulahal Nadia (Univ Lyon, Universite Claude Bernard Lyon 1, ISARA Lyon, BioDyMIA (Bioingenierie et Dynamique Microbienne aux Interfaces Alimentaires), Equipe Mixte d’Accueil n°3733, IUT Lyon 1, Technopole Alimentec, rue Henri de Boissieu, F-01000 Bourg en Bresse, France) ,  Grossiord Carol (Science et Surface, 64, Chemin des Mouilles, F-69130 Ecully, France) ,  Dubost Laurent (HEF, ZI SUD, rue Benoit Fourneyron, F-42166 Andrezieux Boutheon, France) ,  Simon Farida (TDV Industrie, 43 rue du Bas des Bois, BP 1217, F-53012 Laval Cedex, France) ,  Bessueille Francois (Univ Lyon, CNRS, Universite Claude Bernard Lyon 1, ENS de Lyon, Institut des Sciences Analytiques, UMR 5280, 5 rue de la Doua, F-69100 Villeurbanne, France) ,  Degraeve Pascal (Univ Lyon, Universite Claude Bernard Lyon 1, ISARA Lyon, BioDyMIA (Bioingenierie et Dynamique Microbienne aux Interfaces Alimentaires), Equipe Mixte d’Accueil n°3733, IUT Lyon 1, Technopole Alimentec, rue Henri de Boissieu, F-01000 Bourg en Bresse, France) ,  Leonard Didier (Univ Lyon, CNRS, Universite Claude Bernard Lyon 1, ENS de Lyon, Institut des Sciences Analytiques, UMR 5280, 5 rue de la Doua, F-69100 Villeurbanne, France)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 628  ページ： 132-141  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 以前の研究では,食品加工産業のための織物はSiOCHマトリックス(Ag SiOCH被覆)に組み込まれた~10nmサイズの銀クラスタを得るためにプラズマ増強化学蒸着と物理蒸着の組合せに基づく独自の蒸着法で被覆した。しかし,最終用途条件(洗浄サイクルおよび/または酸化中の摩耗)における被覆の安定性は疑問であると本研究は,高い気孔率と低い密度保護層の蒸着後のAg SiOCHコーティングの抗微生物活性に及ぼす影響について調査した特異的である。Ag SiOCH被覆は,カプセル化層(疎水性SiOCHまたは親水性Al_xO_y)で覆われていた。X線光電子分光法(XPS),動的二次イオン質量分析(DSIMS)と飛行時間二次イオン質量分析(ToF SIMS)を用いた多層皮膜の表面とバルクのキャラクタリゼーションの結果を使用して,皮膜の組成を研究し,コーティングの表面と内部における抗菌剤(Ag)の存在を定量化した。抗菌試験は,被覆織物の抗菌活性は維持されることを示した。しかし,抗微生物活性は,直接表面で検出されたAg含有量または頂部表面からかなりの量の銀(XPSにより検出された)を含む被覆の部分までの距離と相関していなかったおよび抗菌試験中の拡散機構が重要な役割を果たす可能性がある。特に,Al_xO_y鉱床の親水性は抗菌薬(Ag)の優れたアベイラビリティを可能にしたが,SiOCH疎水性鉱床のも観察された。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *物理蒸着 ,  X線光電子分光法 ,  *プラズマCVD ,  キャラクタリゼーション ,  *被覆 ,  抗細菌作用 ,  疎水性 ,  *銀 ,  空隙率 ,  *複合材料 ,  親水性 ,  *蒸着 ,  皮膜
準シソーラス用語： 抗菌試験 ,  TOF-SIMS , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (8件)： 抗菌繊維 ,  銀 ,  SiOCH ,  酸化アルミニウム ,  カプセル化 ,  プラズマ増強化学蒸着 ,  物理蒸着 ,  表面分析

分類 (2件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V)

タイトルに関連する用語 (9件)： プラズマ増強化学蒸着 ,  食品加工業 ,  織物 ,  抗菌 ,  仕上げ ,  カプセル化 ,  Ag ,  複合材料 ,  物理蒸着