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J-GLOBAL ID：201702247195774800   整理番号：17A0412354

ホットプレスしたポリ(ふっ化ビニリデン)フィルムの結晶構造と誘電緩和挙動の研究【Powered by NICT】

Investigation on crystalline structure and dielectric relaxation behaviors of hot pressed poly(vinylidene fluoride) film

著者 (6件)： Jiang Xubo (State Key Laboratory of Metastable Materials Science and Technology, College of Materials Science and Engineering, Yanshan University, Qinhuangdao 066004, People’s Republic of China) ,  Zhao Xiaojia (State Key Laboratory of Metastable Materials Science and Technology, College of Materials Science and Engineering, Yanshan University, Qinhuangdao 066004, People’s Republic of China) ,  Peng Guirong (State Key Laboratory of Metastable Materials Science and Technology, College of Materials Science and Engineering, Yanshan University, Qinhuangdao 066004, People’s Republic of China) ,  Liu Wenpei (State Key Laboratory of Metastable Materials Science and Technology, College of Materials Science and Engineering, Yanshan University, Qinhuangdao 066004, People’s Republic of China) ,  Liu Ke (State Key Laboratory of Metastable Materials Science and Technology, College of Materials Science and Engineering, Yanshan University, Qinhuangdao 066004, People’s Republic of China) ,  Zhan Zaiji (State Key Laboratory of Metastable Materials Science and Technology, College of Materials Science and Engineering, Yanshan University, Qinhuangdao 066004, People’s Republic of China)
資料名： Current Applied Physics  (Current Applied Physics)
巻： 17  号： 1  ページ： 15-23  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1579A  ISSN： 1567-1739  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ホットプレスしたポリ(フッ化ビニリデン)(PVDF)膜の誘電緩和挙動は20°Cと200°Cの間の温度で20Hzから5MHzの周波数領域における誘電分光法を用いて研究した。結晶/非晶質界面はFTIR,XRD,およびDSC方法と示唆された。誘電分光法の周波数および温度依存性は試料の緩和挙動と構造動力学を明らかにし,三種類の緩和過程のを示唆した,α_緩和過程は非晶質領域中の中間相のセグメント双極子転位から生じるFermiエネルギーでの伝導バンドまたは価電子帯の周辺,結晶領域における結晶格子にトラップされた双極子の構造変化に関連したα_緩和過程,α_緩和過程近傍ホッピング輸送プロセスに起因するものである。Cole-ColeとH avriliak-Negami実験式を用いて,これらの緩和過程を解析し,Cole-ColeとH avriliak-Negami方程式から得られたαとα_緩和過程に対するArrheniusパラメータの違いを詳細に議論した。Arrheniusの式とVFT方程式から得られた種々の緩和過程の活性エネルギーはホットプレスしたPVDF膜の非単一熱活性化機構を示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *緩和現象 ,  Fermi準位 ,  X線回折 ,  *結晶構造 ,  Arrheniusの式 ,  *誘電緩和 ,  ホッピング伝導 ,  中間相 ,  価電子バンド ,  温度依存性 ,  双極子 ,  界面 ,  *ホットプレス
準シソーラス用語： 構造変化 ,  誘電分光法 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ポリ(ふっ化ビニリデン) ,  誘電緩和 ,  結晶構造 ,  Interphases ,  交流伝導率

分類 (1件)： 誘電体一般  (BM05010F)

タイトルに関連する用語 (7件)： ホットプレス ,  ふっ化ビニリデン ,  フィルム ,  結晶構造 ,  誘電緩和 ,  挙動 ,  研究