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J-GLOBAL ID:201702247615350257   整理番号:17A0404186

疎水性コーティングのためのシリコン基板上に自己集合したperfluoroalkylsilane膜【Powered by NICT】

Self-assembled perfluoroalkylsilane films on silicon substrates for hydrophobic coatings
著者 (7件):
資料名:
巻: 102  号: PB  ページ: 247-258  発行年: 2017年 
JST資料番号: A0541C  ISSN: 0300-9440  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,四種の新規過ふっ化アルキルシラン自己集合膜法によりシリコン基板上に疎水性コーティングを作製した。自己集合アルキルシラン膜の表面化学組成と構造をX線光電子分光法とエネルギー分散X線分光計で分析し,結果は,アルキルシラン分子は均一にヒドロキシル化されたシリコン基板の表面上に集合することに成功したことを示した。水接触角と表面自由エネルギーは自己集合アルキルシラン膜の表面濡れ性を特性化するために試験した。結果はアニーリング過程(BPFOTS Si熱)を持つ自己組織化ビスフルオロオクチルトリクロロシラン膜は117.6±0.9°とヘキサデカン接触角76.7±1.3°で最高の水接触角を持つことを示した。これはシラン分子への二長いペルフルオロアルキル基の導入に起因すると考えられる。一方,アニーリング過程は,自己組織化膜の疎水性を改善するために非常に寄与した。アニールした自己集合アルキルシラン膜の付着力は未処理のもののそれよりも低かった。動的接触角測定はBPFOTS Si熱は最小水接触角ヒステリシス(14±2°)およびヘキサデカン接触角ヒステリシス(10±2°)を持つことを示した。異なる組立時間を有する自己組織化膜の表面形態を原子間力顕微鏡により得られた,表面は次第に組立時間の延長とともに高密度鋭いピークで覆われたであることが分かった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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