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J-GLOBAL ID：201702247692275444   整理番号：17A0974965

プラズマ促進CVD法によるα-MoO₃の高均一性ウエーハスケールの合成

Highly uniform wafer-scale synthesis of α-MoO₃ by plasma enhanced chemical vapor deposition

著者 (8件)： KIM Hyeong-U (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  SON Juhyun (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  KULKARNI Atul (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  AHN Chisung (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  KIM Ki Seok (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  SHIN Dongjoo (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  YEOM Geun Yong (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  KIM Taesung (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR)
資料名： Nanotechnology  (Nanotechnology)
巻： 28  号： 17  ページ： 175601,1-6  発行年： 2017年04月28日 
JST資料番号： W0108A  ISSN： 0957-4484  CODEN： NNOTER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： この研究では,150°Cの低温で誘導結合プラズマ促進CVD系を利用して,Si/SiO₂上にα-MoO₃のウエハスケールの合成を初めて実現した。作成した試料の構造と一様性をRaman分光法と透過型電子顕微鏡法で調べた。さらに,プラズマ過程によるMoからα-MoO₃の形成の仮想的機構を提案した。合成直後の試料上に電子ビーム蒸着法でTi/Au電極を堆積して湿度センサを作成した。得られたMoO₃センサを相対湿度域11~95%で評価した。

シソーラス用語： *プラズマCVD ,  *酸化モリブデン ,  誘導結合プラズマ ,  ウエハ【IC】 ,  *蒸着膜 ,  基板 ,  ケイ素 ,  二酸化ケイ素 ,  膜構造 ,  均一性 ,  Ramanスペクトル ,  透過型電子顕微鏡 ,  *反応機構 ,  *湿度センサ ,  電子ビーム蒸着 ,  電極 ,  金電極
準シソーラス用語： チタン電極

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： プラズマ ,  促進 ,  CVD法 ,  均一性 ,  ウエーハ ,  スケール