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J-GLOBAL ID：201702247907412093   整理番号：17A0496960

ニッケル(II)モノアミド-四座錯体の合成,キャラクタリゼーションおよび触媒活性 Ni(III)-オキソおよびNi(IV)-オキソ化学種の証拠

Synthesis, Characterization, and Catalytic Activities of A Nickel(II) Monoamido-Tetradentate Complex: Evidence For Ni^III-Oxo and Ni^IV-Oxo Species

著者 (8件)： Bok Kwon Hee (Department of Fine Chemistry, Seoul National University of Science and Technology, Seoul, 139-743, Korea) ,  Lee Myoung Mi (Department of Fine Chemistry, Seoul National University of Science and Technology, Seoul, 139-743, Korea) ,  You Ga Rim (Department of Fine Chemistry, Seoul National University of Science and Technology, Seoul, 139-743, Korea) ,  Ahn Hye Mi (Department of Fine Chemistry, Seoul National University of Science and Technology, Seoul, 139-743, Korea) ,  Ryu Ka Young (Department of Fine Chemistry, Seoul National University of Science and Technology, Seoul, 139-743, Korea) ,  Kim Sung-Jin (Department of Chemistry and Nano Science, Ewha Womans University, Seoul, 120-750, Korea) ,  Kim Youngmee (Department of Chemistry and Nano Science, Ewha Womans University, Seoul, 120-750, Korea) ,  Kim Cheal (Department of Fine Chemistry, Seoul National University of Science and Technology, Seoul, 139-743, Korea)
資料名： Chemistry - European Journal  (Chemistry - European Journal)
巻： 23  号： 13  ページ： 3117-3125  発行年： 2017年 
JST資料番号： W0744A  ISSN： 0947-6539  CODEN： CEUJED  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 四座モノアミド配位子,dpaq(dpaq=2-[ビス(ピリジン-2-イルメチル)アミノ]-N-(キノリン-8-イル)アセトアミド)を含有する新規単核ニッケル(II)錯体,[Ni(II)(dpaq)Cl](1)を合成し,IR分光法,元素分析,UV/Vis分光法によりキャラクタライズした。この非ヘムNi(II)錯体1は,穏和な条件下で,メタ-クロロペルオキソ安息香酸(m-CPB)による広範囲のオレフィンのエポキシ化反応を触媒した。触媒システムを利用したオレフィンのエポキシ化には,新しい反応性Ni(IV)-オキソ(4)化学種が関与することが,PPAA(ペルオキシフェニル酢酸)プローブ,Hamett研究,H₂¹⁸O交換実験,ESI質量分析によりわかった。更に溶媒の性質が,Ni-アシルペルオキソ中間体(2)のヘテロおよびホモO-O結合切断を分けるのに大きく影響した。2のO-O結合は,主としてCH₃OHのようなプロトン性溶媒中でのヘテロ開裂を介して進行した。これらの結果から,Ni(IV)-オキソ化学種が,プロトン性溶媒中での共通の反応性中間体であると考えられた。立体特異性オレフィンエポキシ化およびラジカル型酸化それぞれに重要な二種の活性酸化剤,すなわちNi(IV)-オキソ(3)およびNi(III)-オキソ(4)が非プロトン性溶媒中で作用していた。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ニッケル錯体 ,  錯体生成 ,  触媒活性 ,  クロロ錯体 ,  結晶構造 ,  *ニッケル触媒 ,  *エポキシ化 ,  *接触酸化 ,  *反応中間体 ,  溶媒効果 ,  反応機構 ,  ホモリシス ,  オキソ錯体
準シソーラス用語： ヘテロリシス

著者キーワード (5件)： epoxidation ,  nickel ,  nickel-oxo species ,  olefins ,  oxidation

分類 (3件)： その他の触媒  (CB06123Z) ,  コバルトとニッケルの錯体  (CE01092Y) ,  酸化,還元  (CF02060T)

物質索引 (2件)： 3-(クロロペルオキシ)安息香酸 ,  N-(8-キノリル)-2-[ビス(2-ピリジルメチル)アミノ]アセトアミド

タイトルに関連する用語 (8件)： ニッケル ,  アミド ,  錯体 ,  キャラクタリゼーション ,  触媒活性 ,  Ni ,  化学種 ,  証拠