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J-GLOBAL ID:201702248217855161   整理番号:17A0946020

MOVPE法を用いたSiナノチップ上に選択成長させたGaAsナノ結晶の構造と光学特性

Structural and optical characterization of GaAs nano-crystals selectively grown on Si nano-tips by MOVPE
著者 (14件):
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巻: 28  号: 13  ページ: 135301,1-10  発行年: 2017年03月31日 
JST資料番号: W0108A  ISSN: 0957-4484  CODEN: NNOTER  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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本論文では,ナノチップ(NT)上のナノヘテロエピタクシー(NHE)法をGaAsの成長に適用した。相補型金属酸化物半導体(CMOS)技術に適合するプロセスを用いて製造されたナノパターン化シリコン(001)基板上にガリウムヒ素(GaAs)のナノヘテロエピタキシャル成長を報告する。ヘテロ構造は,Si上のGaAsの選択的有機金属気相成長(MOVPE)を用いて得られる。GaAsナノ結晶(NC)の選択成長はMOVPEにより570°Cで達成された。成長したナノヘテロ構造の詳細な構造および欠陥評価を,走査透過型電子顕微鏡(STEM),X線回折,マイクロラマンおよびマイクロ光ルミネセンス(μ-PL)分光法を用いて行った。SiO2マスク型圧縮歪SiNTによって単結晶のほぼ緩和したGaAsNCをSTEM像は示す。GaAs/Si界面領域に特に位置する少数の成長欠陥(例えば積層欠陥,マイクロ/ナノ双晶など)が観察されたとしても,μ-PL分光法によって観測されるように,ナノヘテロ構造は強い発光を示した。
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体薄膜  ,  半導体のルミネセンス 

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