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J-GLOBAL ID:201702248581236776   整理番号:17A0987194

アニーリング中の金属間化合物のスパッタ蒸着したNi/Ti二重二層薄膜と効果【Powered by NICT】

Sputter-deposited Ni/Ti double-bilayer thin film and the effect of intermetallics during annealing
著者 (4件):
資料名:
巻: 49  号:ページ: 620-629  発行年: 2017年 
JST資料番号: E0709A  ISSN: 0142-2421  CODEN: SIANDQ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,Ni/Ti薄膜の二重二分子層を調べた。ナノスケールNiTi薄膜をSi(100)基板上に二重二分子層構造を形成するNi Ti Ni Ti方法で堆積した。Ni及びTi堆積をマグネトロンスパッタリングチェンバ中で,それぞれ,d.c.及びr.f.電力を用いて行った。四タイプの二層は各層の堆積時間(すなわち15 20 25,および30分)を変化させて形成された。堆積したままの非晶質薄膜は,300年,400年,500年,および600°Cで1時間アニールのための層の間の拡散を達成した。微細構造は,電界放出型走査電子顕微鏡および高分解能透過型電子顕微鏡を用いて分析した。,アニーリング温度の増加300から600°Cまで,表面に及ぼす界面と原子マイグレーションでは,拡散は増加することが分かった。断面顕微鏡写真は,二層成分の間の相互拡散,特に高温,界面に沿った拡散パッチをもたらしたのを示した。,すれすれ入射X線回折により行い,相分析は,機械的性質を強化するいくつかのケイ化物相をもつ金属間化合物の形成を示した。ナノインデンテーションと原子間力顕微鏡は,膜の機械的性質と表面プロフィルを知るために実施した。表面仕上げは,より高いアニーリング温度でより優れている。を300°Cから600°Cまで変化するアニーリング温度で,アニーリング温度の増加は,改善された吸着原子移動度をもつ原子クラスタ粗大化が徐々に増加することが分かった。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (5件):
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固-固界面  ,  金属薄膜  ,  質量分析  ,  その他の無機化合物の薄膜  ,  固体中の拡散一般 

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