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J-GLOBAL ID:201702248591041707   整理番号:17A0403051

高性能温度感受性WドープVO_2(B)薄膜と第一原理計算によるその同定【Powered by NICT】

High-performance thermal sensitive W-doped VO2(B) thin film and its identification by first-principles calculations
著者 (9件):
資料名:
巻: 397  ページ: 30-39  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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VO_2(B)はボロメータ材料が,低抵抗温度係数(TCR)値と大きな抵抗に難渋するとして現在応用のための優先相構造。はドープと比ドープの両VO_2(B)薄膜の広く使用されているマグネトロンスパッタリング法を用いて制御されたWドーピングによる高TCR( 3.9%/k)と適切なシート抵抗(32.7kΩ)を達成することを可能にする実験と第一原理計算研究を提示した。TCR値は同様な抵抗で報告されたものよりも50%大きかった。性能改善のための基本的な微視的機構を研究し,結果は,過剰電子の導入とVO_2(B)結晶格子におけるW~6+イオンの取り込みに由来するバンド構造の変化は,電子伝導率の向上に寄与することを示した。さらに,単斜晶系(C2/m)B相VO_2の特殊な二次元八面体構造は大きなTCR,M期VO_2におけるドーパントにより発生した高伝導率と大きなTCR間の類似の苦境を克服することを達成するためのWドーピングによる歪制御に有利であった。本知見は熱光電センシングデバイスへの広い応用のための優れた光学的および電気的特性を高性能WドープVO_2(B)薄膜の設計と作製のための容易で簡単な方法を提供する。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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吸着の電子論  ,  表面の電子構造 

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