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J-GLOBAL ID：201702249147348663   整理番号：17A0445355

ヘキサメチルジシラザンまたはビニルトリメチルシランと酸素プラズマ処理を用いた低温プラズマ増強化学蒸着で作製したSiOx含有硬質膜の特性【Powered by NICT】

Characteristics of SiOx-containing hard film prepared by low temperature plasma enhanced chemical vapor deposition using hexamethyldisilazane or vinyltrimethylsilane and post oxygen plasma treatment

著者 (5件)： Wei Yi-Syuan (Department of Materials Engineering, Tatung University, Taipei, 104, Taiwan) ,  Liu Wan-Yu (Department of Materials Engineering, Tatung University, Taipei, 104, Taiwan) ,  Wu Hsin-Ming (Department of Materials Engineering, Tatung University, Taipei, 104, Taiwan) ,  Chen Ko-Shao (Department of Materials Engineering, Tatung University, Taipei, 104, Taiwan) ,  Cech Vladimir (Institute of Materials Chemistry, Brno University of Technology, Czechia)
資料名： Materials Chemistry and Physics  (Materials Chemistry and Physics)
巻： 189  ページ： 183-190  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0934A  ISSN： 0254-0584  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ヘキサメチルジシラザン(HMDSZ)とビニルトリメチルシラン(VTMS)の単量体は,それぞれプラズマ増強化学気相蒸着によるポリエチレンテレフタレート(PET)基板の表面上に堆積した。酸素プラズマ処理はHMDSZとVTMS蒸着に続く堆積表面上の親水性表面膜を生成した。HMDSZとVTMSプラズマ蒸着のための時間は水接触角,堆積した膜の厚さ,屈折率,及び摩擦係数特性に及ぼすその影響を調べるために変化させた。処理した試料の表面形態を走査電子顕微鏡で観察し,それらの化学組成をX線光電子分光法により測定した。550nm波長では,HMDSZ処理後のPETの光透過率は89%から83%に減少するが,VTMS処理の89%から95%に増加した。HMDSZとVTMS堆積時間の増加に伴い,膜厚が増加すると屈折率は減少した。XPS,SiO_2膜によって明らかにされた結果はO_2プラズマ処理後の試料表面に形成された。HMDSZ+O_2とVTMS+O_2処理により膜の付着能力は,HMDSZとVTMS処理のみによるよりも強かった。HMDSZ+O_2とVTMS+O_2処理により作製したSiOx膜は膜の硬度を増加させ,光透過率を改善することができる。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 膜厚 ,  摩擦係数 ,  X線光電子分光法 ,  *プラズマ処理 ,  走査電子顕微鏡 ,  *プラズマ ,  屈折率 ,  *プラズマCVD ,  化学組成
準シソーラス用語： 光透過率 ,  表面形態 ,  水接触角 ,  *酸素プラズマ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： HMDSZ ,  VTMS ,  プラズマ蒸着 ,  屈折率 ,  Transmittance

分類 (8件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  プラズマ応用  (BJ02110K) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  半導体のルミネセンス  (BM08092S) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  ポリエステル,アルキド  (YH07070P) ,  無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  有機けい素化合物  (CF08030C)

物質索引 (2件)： ビニルトリメチルシラン ,  ヘキサメチルジシラザン

タイトルに関連する用語 (7件)： ヘキサメチルジシラザン ,  ビニルトリメチルシラン ,  酸素プラズマ ,  低温 ,  プラズマ増強化学蒸着 ,  作製 ,  硬質膜