文献

J-GLOBAL ID：201702249219960266   整理番号：17A0950179

多層Ni/NiO電極のリチオ化変換反応速度に及ぼすニッケル層厚さの臨界性【Powered by NICT】

Lithiation of multilayer Ni/NiO electrodes: criticality of nickel layer thicknesses on conversion reaction kinetics

著者 (9件)： Evmenenko Guennadi (Department of Materials Science and Engineering, Northwestern University, Evanston, Illinois 60208, USA. [e-mail]) ,  Fister Timothy T. ,  Buchholz D. Bruce ,  Castro Fernando C. ,  Li Qianqian ,  Wu Jinsong ,  Dravid Vinayak P. ,  Fenter Paul ,  Bedzyk Michael J.
資料名： Physical Chemistry Chemical Physics  (Physical Chemistry Chemical Physics)
巻： 19  号： 30  ページ： 20029-20039  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0271C  ISSN： 1463-9076  CODEN： PPCPFQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： X線反射率と透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて,Niバッファ層の厚さの関数としてのリチオ化中の交互NiおよびNiO層を持つ薄膜電極の形態学的変化を特性化した。活性NiO層の完全なリチオ化が起こるNi/NiO二重層の厚さは多層スタックのNi/NiO二層中のNi量の和により決定されることを75Å以下のしきい値の値の場合だけであった。より厚いNi/NiO二重層はスタックのみトップNiO層はlithiates多層電極の部分的リチオ化をもたらす内へのリチウムイオン拡散に対する速度論的障壁を示した。多層スタック中のNiO層のリチオ化も隣接Ni層の厚さを増加させる3 4Åに観察される界面特有の反応をもたらし,低密度Li_2O層の形成と関連しており,NiOの界面駆動相分離に対応している。速度依存性サイクリックボルタンメトリー研究は,ピーク電流と走査速度間で直線関係リチオ化速度は液体-固体界面での電荷移動抵抗によって制御されていることを示唆していることを明らかにした。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 多層膜 ,  *複合膜 ,  *酸化ニッケル ,  *ナノ構造 ,  *ニッケル ,  *依存性 ,  反射率 ,  透過型電子顕微鏡 ,  バッファ層 ,  サイクリックボルタンメトリー ,  電気化学インピーダンス ,  固液界面 ,  電流 ,  速度 ,  リチウムイオン電池 ,  電極材料 ,  *リチウム化合物 ,  *金属イオン ,  *イオン拡散
準シソーラス用語： 交互積層膜 ,  *ナノ複合膜 ,  *膜厚依存性 ,  X線反射率 ,  電荷移動抵抗 ,  ピーク電流 ,  走査速度 ,  *リチウムイオン

分類 (2件)： 二次電池  (YB04030K) ,  固体中の拡散一般  (BL06021L)

タイトルに関連する用語 (7件)： 多層 ,  Ni ,  リチオ化 ,  反応速度 ,  ニッケル層 ,  厚さ ,  臨界