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J-GLOBAL ID：201702249579037931   整理番号：17A1499334

イオン注入を利用した自己アフィンナノパターン化TiO_2表面のスケーリング研究【Powered by NICT】

Scaling studies of self-affine nanopatterned TiO₂ surfaces created via ion implantation

著者 (6件)： Joshi Shalik Ram (Institute of Physics, Sachivalaya Marg, Bhubaneswar-751005, India) ,  Joshi Shalik Ram (Homi Bhabha National Institute, Training School Complex, Anushakti Nagar, Mumbai 400085, India) ,  Chanda Anupama (Department of Physics, Dr. Hari Singh Gour University, M.P. 470003, India) ,  Kanjilal D. (Inter University Accelerator Center, New Delhi 110067, India) ,  Varma Shikha (Institute of Physics, Sachivalaya Marg, Bhubaneswar-751005, India) ,  Varma Shikha (Homi Bhabha National Institute, Training School Complex, Anushakti Nagar, Mumbai 400085, India)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 639  ページ： 145-151  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： コバルトイオンを注入した後の動的スケーリング研究は単結晶TiO_2(110)表面の形態学的表面発展を調べるために,ここで行った。これらイオン照射された表面は非平衡成長過程を経て発生すると自己アフィン挙動を示す高さの揺らぎを持つ粗い界面を示した。粗さ指数(α),成長指数(β),動的指数(z)と構造因子定数(γ)のようなスケーリング指数は高さ-高さ相関と構造因子分析法を適用してここで導いたし,拡散はコバルトイオン照射後に生成したこれらの自己アフィン表面の進化における重要な役割を果たすことを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 単結晶 ,  成長段階 ,  構造因子 ,  モルフォロジー ,  ゆらぎ ,  *イオン注入 ,  イオン照射 ,  界面 ,  因子分析 ,  非平衡状態
準シソーラス用語： スケーリング指数 ,  粗さ指数 ,  コバルトイオン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 原子間力顕微鏡観察 ,  イオン注入 ,  コバルト ,  二酸化チタン ,  表面形態

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (5件)： イオン注入 ,  自己 ,  ナノパターン ,  スケーリング ,  研究