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J-GLOBAL ID：201702249787168601   整理番号：17A0889892

場支援傾斜スパッタリングにより作製したパーマロイの厚さに依存する磁気及び磁気抵抗特性【Powered by NICT】

Thickness-dependent magnetic and magnetoresistance properties of permalloy prepared by field assisted tilt sputtering

著者 (2件)： Kateb Movaffaq (Science Institute, University of Iceland, IS-107 Reykjavik, Iceland) ,  Ingvarsson Snorri (Science Institute, University of Iceland, IS-107 Reykjavik, Iceland)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： SAS  ページ： 1-5  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,異なる厚さ(10-250 nm)のパーマロイNi_80Fe_20膜の磁気的性質と異方性磁気抵抗(AMR)の結果を提示した。膜は角でスパッタ蒸着により成長させた,一軸異方性の定義を支援するその場磁場であった。結果は,異方性磁場(Hk),厚さ50nmまでによる電気抵抗の無視できる変化であることを示した。しかし,より薄い膜(<50 nm)Hkと抵抗率は膜厚の減少と共に急速に増加した。膜の保磁力(Hc)は厚さに無関係である,1.5Oe以下の全てのケースでことが分かった。AMRは膜厚と共に増加し,より高い厚さで飽和した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 電気抵抗率 ,  *磁気抵抗 ,  異方性 ,  *スパッタリング ,  膜厚 ,  磁気的性質 ,  磁場 ,  *パーマロイ ,  高速度 ,  異方性磁場 ,  *磁気 ,  保磁力 ,  一軸
準シソーラス用語： 異方性磁気抵抗 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 磁性材料  (NA04040H) ,  金属の磁区及び磁化過程  (BM06112D) ,  金属結晶の磁性  (BM06040T)

タイトルに関連する用語 (8件)： 場 ,  支援 ,  スパッタリング ,  作製 ,  パーマロイ ,  厚さ ,  磁気 ,  抵抗特性