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J-GLOBAL ID：201702249808519502   整理番号：17A1639364

けい酸カルシウム水和物相の細孔構造の研究【Powered by NICT】

Investigating the pore structure of the calcium silicate hydrate phase

著者 (7件)： Wenzel Olivia (Laboratory for Electron Microscopy (LEM), Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Engesserstr. 7, 76131, Karlsruhe, Germany) ,  Schwotzer Matthias (Institute of Functional Interfaces (IFG), Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Hermann- von- Helmholtz- Platz 1, 76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany) ,  Mueller Erich (Laboratory for Electron Microscopy (LEM), Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Engesserstr. 7, 76131, Karlsruhe, Germany) ,  Chakravadhanula Venkata Sai Kiran (Institute of Nanotechnology (INT), Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Hermann- von- Helmholtz- Platz 1, 76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany) ,  Scherer Torsten (Institute of Nanotechnology (INT), Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Hermann- von- Helmholtz- Platz 1, 76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany) ,  Gerdes Andreas (Institute of Functional Interfaces (IFG), Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Hermann- von- Helmholtz- Platz 1, 76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany) ,  Gerdes Andreas (Institute for Prevention in Construction (IPB), University of Applied Sciences, Hermann- von- Helmholtz- Platz 1, 76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany)
資料名： Materials Characterization  (Materials Characterization)
巻： 133  ページ： 133-137  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0448C  ISSN： 1044-5803  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： けい酸カルシウム水和物相(C S H)の物理的性質は,セメント系材料の材料強度と耐久性に大きな影響を与える。しかし,材料安定性に及ぼすその広範な使用と影響にもかかわらず,まだそのナノ構造に関する論争。本論文では,C-S-Hの細孔構造は,30keVでの測定と低い一次電子エネルギー(80keV)で動作する透過型電子顕微鏡(TEM)用の走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて行った走査透過電子顕微鏡(STEM)を用いたモデルけい酸三カルシウムクリンカーセメントペーストから集束イオンビームで作製したラメラを分析することにより特性化した。組成はエネルギー分散型X線分光法(EDX)を用いてSEMにマッピングされた。これらの研究は,細孔径分布を計算するための非局所密度汎関数理論(NLDFT)モデルを用いたアルゴン吸着測定を伴っていた。水銀圧入ポロシメトリ(MIP)はマクロ細孔を調べるために用いた。30および80keVで行ったSTEM研究は両0.7 4~1.0nmの薄いC-S-H箔によって構築されたスポンジ状細孔構造を明らかにした。2と10nmの間の細孔径5~nm幅の細孔が支配的であった。これらの結果は,アルゴン吸着で決定した細孔径分布,幅4.6nmの細孔を見出した主にと一致している。STEMとガス吸着における類似の細孔幅分布は,観察と分析の際に生ずる最小電子ビーム損傷に対するガス吸着測定とポイントを検証した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *細孔構造 ,  ナノ構造 ,  *細孔 ,  *水和物 ,  アルゴン ,  キャラクタリゼーション ,  透過型電子顕微鏡 ,  細孔径 ,  *ケイ酸カルシウム ,  吸着 ,  走査電子顕微鏡 ,  耐久性 ,  細孔径分布 ,  *ケイ酸
準シソーラス用語： C-S-H , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： C-S-H ,  細孔構造 ,  集束イオンビーム調製 ,  走査型透過型電子顕微鏡観察 ,  電子ビーム損傷 ,  ガス吸着

分類 (3件)： 医用素材  (GA05040H) ,  化成処理  (WC08050J) ,  モルタル,コンクリート  (RA06042H)

タイトルに関連する用語 (3件)： けい酸カルシウム水和物 ,  細孔構造 ,  研究