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J-GLOBAL ID：201702249809046146   整理番号：17A0900377

溶融石英基板上へのPLDによるZnOナノ構造(00l)方位成長に及ぼす基板温度の影響

Effect of substrate temperature on (00l) oriented growth of ZnO nanostructures on fused quartz substrate by PLD

著者 (2件)： SRIVASTAVA Amit (Motilal Nehru National Inst. Technol. Allahabad, Allahabad, IND) ,  KUMAR Naresh (Motilal Nehru National Inst. Technol. Allahabad, Allahabad, IND)
資料名： Journal of Materials Science. Materials in Electronics  (Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻： 28  号： 13  ページ： 9258-9264  発行年： 2017年07月 
JST資料番号： W0003A  ISSN： 0957-4522  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パルスレーザ堆積(PLD)によって,簡単かつ新しい触媒フリー(00l)方位酸化亜鉛(ZnO)ナノ構造を石英基板上に合成した。ZnOナノ構造の成長品質は,基板温度の上昇と共に向上することが分った。その上,基板温度を上昇させるとZnOナノ構造のモフォロジーは改善し,このことは原子間力顕微鏡(AFM)から分かる。また,AFMデータから,粒子サイズと表面粗さが基板温度の上昇と共に増加することが観察された。このことは,粒子成長に起因する可能性がある。フォトルミネセンス(PL)測定を行い,PLD成長ZnOナノ構造中の種々の亜鉛及び酸素関連欠陥を調べ,バンド端近傍発光を示す。紫外可視領域における透過スペクトルを用いて,バンドギャップを計算した。光学バンドギャップは,基板温度/粒子サイズの増加と共に3.24から3.21eVに減少した。より高い基板温度で膜のバンドギャップが減少することは,酸素空孔の減少に起因し,種々の応用に有用である可能性がある。

シソーラス用語： *酸化亜鉛 ,  *パルスレーザ蒸着 ,  ナノ構造 ,  結晶方位 ,  石英ガラス ,  X線回折 ,  粒度 ,  表面粗さ ,  原子間力顕微鏡 ,  光学ギャップ ,  光ルミネセンス ,  モルフォロジー ,  表面構造 ,  *基板温度
準シソーラス用語： 表面モルフォロジー ,  粒子サイズ

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (8件)： 溶融 ,  石英基板 ,  PLD ,  ZnO ,  ナノ構造 ,  方位 ,  成長 ,  基板温度