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J-GLOBAL ID:201702250163671253   整理番号:17A1176886

埋め込まれたりんタングステン酸を含むシリカゲルへのセシウムの吸着【Powered by NICT】

Adsorption of cesium on silica gel containing embedded phosphotungstic acid
著者 (7件):
資料名:
巻: 244  ページ: 55-66  発行年: 2017年 
JST資料番号: E0642C  ISSN: 1387-1811  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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埋め込まれたリンタングステン酸(PTA)を含むメソ多孔質シリカゲルは,酸性媒体中でのPTAとテトラエトキシシランのゾル-ゲル共縮合によって合成した。得られた材料は,高いBET表面積と細孔容積を有していた。PTAのKeggin構造の特徴的なバンドはFT-IRスペクトル中に存在するが,そのXRDパターンは存在しなかった。これはサブ分子レベルに対するPTAの埋込みを証明した。材料はCsの高い吸着容量を示した。予想外に,吸着剤の気孔率はセシウムカチオンによる最もプロトンの置換後に増加した。カチオン交換も材料粒子の凝集に有利であった。速度論研究は,吸着データは擬二次モデルと強く相関することを示した。吸着剤は,二種類の吸着部位を有していた:ヘテロポリ酸アニオンとシラノール基。しかし,シラノール基への吸着は温度に非常に敏感である。増加温度では,吸着の性質をLangmuirモデルに適合し非常に良好であった。得られた結果は,放射性セシウム-137で汚染された水のクリーンアップのための効果的な吸着剤の開発に使用できる。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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吸着剤  ,  合成鉱物 
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