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J-GLOBAL ID：201702250692955375   整理番号：17A1448746

熱的に発生する過渡的ホスファノキシル錯体の化学

Chemistry of Thermally Generated Transient Phosphanoxyl Complexes

著者 (7件)： HEURICH Tobias (Univ. Bonn, Bonn, DEU) ,  QU Zheng-Wang (Univ. Bonn, Bonn, DEU) ,  SCHNAKENBURG Gregor (Univ. Bonn, Bonn, DEU) ,  NEJATYJAHROMY Yaser (Univ. Bonn, Bonn, DEU) ,  SCHIEMANN Olav (Univ. Bonn, Bonn, DEU) ,  GRIMME Stefan (Univ. Bonn, Bonn, DEU) ,  STREUBEL Rainer (Univ. Bonn, Bonn, DEU)
資料名： Organometallics  (Organometallics)
巻： 36  号： 15  ページ： 2877-2883  発行年： 2017年08月14日 
JST資料番号： E0965A  ISSN： 0276-7333  CODEN： ORGND7  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： トルエン中,[(CO)₅W(Ph₂PO-TEMPO)]から熱的に発生し,過渡的に形成されるホスファノキシル錯体[(CO)₅W(Ph₂PO^・)]の反応性について調査した。自己反応は別として,このラジカル錯体のトラッピングは,第14族水素化物Ph₃EH(E=Si,Ge,Sn)を使って達成され,そして,P-O-EPh₃結合モチーフを有した新規ホスファン錯体および副産物として対応するTEMPO-Hが生成した。反応経路(DFT計算に由来する)は,明らかにいろいろな開殻錯体の介在を示しており;EPR測定はラジカルの存在を示していた。しかしながら,残念なことに,この説明は成し遂げられなかった。

シソーラス用語： *ラジカル ,  錯体 ,  *タングステン錯体 ,  過渡現象 ,  計算 ,  密度汎関数法 ,  反応経路 ,  分子構造 ,  核間距離 ,  化学結合 ,  開裂反応 ,  芳香族化合物 ,  有機スズ化合物
準シソーラス用語： ラジカル錯体 ,  O-N結合 ,  密度汎関数計算

分類 (1件)： 第6族,第7族元素の錯体  (CE01080F)

物質索引 (4件)： TEMPO ,  トリフェニルゲルマン ,  トリフェニルシラン ,  トリフェニルスタンナン

タイトルに関連する用語 (2件)： 錯体 ,  化学