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J-GLOBAL ID：201702251270244001   整理番号：17A1523600

ビスマス酸ビスマス薄膜のアニーリング技術の研究進展【JST・京大機械翻訳】

Research Progress of Annealing Process of Bismuth Ferrite Thin Films

著者 (6件)： Cai Wenxin (重慶科技学院 冶金与材料工程学院,重慶,401331) ,  Gao Rongli (重慶科技学院 冶金与材料工程学院,重慶,401331) ,  Fu Chunlin (重慶科技学院 冶金与材料工程学院,重慶,401331) ,  Cai Wei (重慶科技学院 冶金与材料工程学院,重慶,401331) ,  Deng Xiaoling (重慶科技学院 冶金与材料工程学院,重慶,401331) ,  Chen Gang (重慶科技学院 冶金与材料工程学院,重慶,401331)
資料名： Biaomian Jishu  (Biaomian Jishu)
巻： 46  号： 2  ページ： 77-86  発行年： 2017年 
JST資料番号： C2656A  ISSN： 1001-3660  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： ビスマス(BFO)マルチフェロイック材料は豊富な物理的性質を有するため、メモリー、センサー、コンデンサ、光起電デバイスなどの面で広く応用されており、過去数十年にずっと注目されている。しかし、Bi元素は高温で揮発しやすいため、純相のBFO薄膜を合成することは難しい。また、酸素空孔が存在するか、Feイオンの価による非化学量論比などの欠陥があるため、漏れ電流密度が大きく、BFO薄膜の強誘電特性と実際の応用に深刻な影響を与える。焼なましプロセスは材料の微細構造とマクロ的性質に影響する重要な要素であるため、焼なましプロセスによってBFO薄膜の構造と性能を制御することは非常に有効な手段である。しかし、焼なましプロセスは焼なまし時間、焼なまし雰囲気、焼なまし温度及びアニーリング方式などの多くの形式を含み、それぞれの焼なまし形式がどのようにBFO薄膜の構造及び性能に影響するかについて検討する価値がある問題である。本論文では,BFO薄膜の構造(結晶サイズ,形状,電気的ドメインサイズ,タイプ,表面形態)と特性(磁気的,強誘電性,誘電性,漏れ電流,導電機構)に及ぼすアニーリング時間(アニール時間,アニーリング雰囲気,アニーリング温度,およびアニーリング)の影響をレビューした。.. .....................................の影響についての研究進展をまとめた。いくつかの解決すべきいくつかの問題を提案した。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 結晶 ,  鉄 ,  *焼なまし ,  強誘電性 ,  コンデンサ ,  *ビスマス ,  イオン ,  漏れ電流 ,  微細構造 ,  *薄膜 ,  非化学量論
準シソーラス用語： アニーリング温度 ,  表面形態 ,  酸素空格子点 ,  マルチフェロイック材料 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： multiferroic material ,  bismuth ferrite films ,  defects ,  annealing process ,  properties

分類 (1件)： 強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B)

タイトルに関連する用語 (6件)： ビスマス酸 ,  ビスマス ,  薄膜 ,  アニーリング ,  研究 ,  進展