文献

J-GLOBAL ID：201702251514634903   整理番号：17A0965827

MOCVD真空炉の高温熱源のマルチセグメント適応制御【Powered by NICT】

The multi-segment adaptive control of the high temperature heat source in a MOCVD vacuum reactor

著者 (4件)： Chiu Jung- Ching (Graduate institute of Opto-Mechatronics Engineering, National Central University, Taoyuan 320, Taiwan (R.O.C)) ,  Hu Chih-Kai (Department of Mechanical Engineering, National Central University, Taoyuan 320, Taiwan (R.O.C)) ,  Tung Pi-Cheng (Department of Mechanical Engineering, National Central University, Taoyuan 320, Taiwan (R.O.C)) ,  Li Tomi T. (Department of Mechanical Engineering, National Central University, Taoyuan 320, Taiwan (R.O.C))
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： CSTIC  ページ： 1-4  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,高温熱源のための適応制御に焦点を当てた。適応制御の重要な特性は,自己調節である。各温度段階で温度を制御する異なるパラメータ値が必要であるため適応制御であるMOCVDプロセスにおいて非常に重要である。シミュレーションと実験は,MOCVDプロセスのための提案した制御方式の実現可能性を検証した。シミュレーション結果は実験結果と比較した。結果は比例積分(PI)制御における定常状態誤差は約3°Cであり,適応制御における0.3°Cであることを示した。適応制御の性能は産業で一般的に使用される従来のPI制御のそれよりもはるかに良好なことが分かった。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 制御方式 ,  *熱源 ,  シミュレーション ,  *MOCVD ,  *適応制御 ,  積分 ,  *真空炉 ,  自己調節 ,  *高温
準シソーラス用語： PI制御 ,  定常状態 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： システム設計・解析  (IA02030D)

タイトルに関連する用語 (6件)： MOCVD ,  真空炉 ,  高温熱源 ,  マルチ ,  セグメント ,  適応制御