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J-GLOBAL ID：201702251936629755   整理番号：17A0103653

イソブチルで修飾したマイクロシリカ膜の調製および水素分離性能【JST・京大機械翻訳】

Preparation and hydrogen separation of microporous silica membranes modified by isobutylgroup

著者 (5件)： Zhang Shaokang (College of Materials Science and Engineering,Beijing University of Technology) ,  Wei Qi (College of Materials Science and Engineering,Beijing University of Technology) ,  Li Qunyan (College of Materials Science and Engineering,Beijing University of Technology) ,  Nie Zuoren (College of Materials Science and Engineering,Beijing University of Technology) ,  Liu Yajun (College of Materials Science and Engineering,Beijing University of Technology)
資料名： Mokexue yu Jishu  (Mokexue yu Jishu)
巻： 36  号： 4  ページ： 46-53  発行年： 2016年 
JST資料番号： W1530A  ISSN： 1007-8924  CODEN： MKYJEF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 前駆体としてテトラエトキシシラン(TEOS)とイソブチル(ITES)を用い,ゾル-ゲル法により酸性条件下でイソブチルを調製した。Γ-AL_2O_3/Α-AL_2O_3複合材料を含浸法によって調製した。動的光散乱,接触角測定,赤外分光法,核磁気共鳴,およびN_2吸着を用いて,ゾル-ゲルの粒径分布,疎水性,および細孔構造を特性評価し,そして,イソブチル膜の水素透過と分離性能を研究した。結果は,モル比がN(ITES)/N(TEOS)=0.6のとき,平均粒径は約5.1NMであり,細孔径分布は0.45~0.8NMであることを示した。膜の水接触角は(114.0±0.5)°.H/CM2であり,膜の透過率は試験温度の上昇と共に増加し,300°Cで9.07×10(-7)MOL/(M2S PA)に達した。H_2/CO_2とH_2/COの理想的分離係数は,それぞれ,6.79と15.37であり,二つのグループのガス分離係数は,それぞれ,7.09と15.72であり,対応するKNUDSEN拡散分離因子より高かった。H_2膜の輸送は,主に活性化拡散機構に従った。250°Cの水蒸気のモル分率が5%の環境で200H熟成した後、イソブチルで修飾したSIO_2膜は良好な水熱安定性を有する。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 水素透過 ,  ゾル-ゲル法 ,  細孔径分布 ,  動的光散乱 ,  *分離係数 ,  細孔構造 ,  接触角 ,  モル分率 ,  透過率 ,  キャラクタリゼーション ,  粒度分布 ,  含浸 ,  水熱安定性 ,  水接触角 ,  *分離性能

著者キーワード (4件)： isobutyl groups ,  organic-inorganic hybrid microporous silica membranes ,  pore structure ,  hydrogen sep aration

分類 (1件)： 吸着剤  (YB03000W)

タイトルに関連する用語 (5件)： 修飾 ,  シリカ膜 ,  調製 ,  水素 ,  分離性能