dc反応性マグネトロンスパッタリングにより堆積したTiO_2~-ZnO薄膜の増強された光触媒活性【Powered by NICT】

Perez-Gonzalez M.; Tomas S.A.; Santoyo-Salazar J.; Morales-Luna M.

文献

J-GLOBAL ID：201702252201596260 整理番号：17A0994914

dc反応性マグネトロンスパッタリングにより堆積したTiO_2~-ZnO薄膜の増強された光触媒活性【Powered by NICT】

Enhanced photocatalytic activity of TiO₂-ZnO thin films deposited by dc reactive magnetron sputtering

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資料名：
巻： 43 号： 12 ページ： 8831-8838 発行年： 2017年
JST資料番号： H0705A ISSN： 0272-8842 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

TiO_2~-ZnO薄膜の光触媒活性に及ぼす蒸着条件の影響を調べた。(Ti)90-(Zn)10合金ターゲットを用いて,試料をdc反応性マグネトロンスパッタリングによりガラス基板上に室温で堆積し,500°Cで空気中で事後アニーリングした。O_2/Arガス比と蒸着圧力上の膜の物理的性質の依存性を調べた。XRDパターンは主にTiO_2のアナターゼ相の形成を示した。光吸収測定は,作動圧力の増加と共にバンドギャップエネルギーの青方偏移を示した。XPSスペクトルはTi~4+とZn~2+酸化状態の存在,TiO_2とZnOにそれぞれ対応することを示した。Tiの化学状態は,修正Augerパラメータ,α’,約873eVの値を与えるにより解析した。膜の光触媒特性はメチレンブルー水溶液の分解によって評価した。最大光触媒性能は3.0mTorrとO_2/Arガス比10/90で堆積した試料で観察された。これらの結果は,膜の構造的,光学的および形態学的特性の観点から説明した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

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著者キーワード (4件)： , , ,

光化学一般 , セラミック・磁器の性質 , 酸化物薄膜

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