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J-GLOBAL ID:201702252487107196   整理番号:17A0909587

前引張コンプライアント基板上の薄いNi膜の繰返し試験【Powered by NICT】

Cyclic testing of thin Ni films on a pre-tensile compliant substrate
著者 (6件):
資料名:
巻: 695  ページ: 112-119  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0589B  ISSN: 0921-5093  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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金属薄膜の繰返し塑性変形を研究するための新しい実験手法を提示した。厚さ300nmのNi膜は堆積したままの残留応力状態と比較して引張と圧縮(約2.7GPa 2GPaから)で交互に膜を変形させることを可能にするプレテンシル軟質基板の両側上に堆積した。ナノ結晶薄膜の固有弾性歪(または応力)と真歪をそれぞれX線回折(XRD)とデジタル画像相関(DIC)技術のおかげで,二負荷/除荷サイクル中に段階的に測定した。最初の繰返し変形から,膜中で証明されている重要なBauschinger効果が,ほとんどまたは繰返し硬化は二回のサイクル試験の間観察されなかった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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