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J-GLOBAL ID:201702252510731617   整理番号:17A1421034

マイクロ波照射を用いた化学溶液におけるSnS膜の調製【Powered by NICT】

Preparation of SnS films in chemical solution using microwave irradiation
著者 (2件):
資料名:
巻: 636  ページ: 171-176  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0899A  ISSN: 0040-6090  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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硫化スズ(SnS)薄膜を,水における塩化第一すず,アセトン,トリエタノールアミン(TEA),チオアセトアミド,および液体アンモニアを混合することにより調製した化学溶液のガラススライド上に堆積した。の解決法は,油浴撹はん機(OBS)または電子レンジ(MW)により加熱した。薄膜をOBSまたはMWで加熱された溶液中でのガラススライド上に堆積した。種々の量のTEAを含む溶液で堆積したSnS膜は,走査電子顕微鏡(SEM),X線回折(XRD),及び光電流測定を用いて調べた。SEMは,OBSとMWを用いて調製した膜は溶液中でTEAの量に膜厚の異なる依存性を示すことを明らかにした。少数の正孔と溝を有する平板SnS膜は,MWを用いた最適化TEA含有量で得られた。暗伝導度とOBSを使用して化学浴堆積で調製したSnS膜の光電流は,TEAの減少と共に減少し,MWを用いて調製したものは,TEAの減少とともに増加した。MWを用いて最適化TEA含有量で調製された試料はOBSを用いて最適化TEAで調製された試料のそれよりも20倍高い光電流を示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
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酸化物薄膜  ,  光物性一般 
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