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J-GLOBAL ID:201702252576423096   整理番号:17A1760918

縦結合導波路のための多層積層全ゾル-ゲル製造法

A Multi-Layer Stacked All Sol-Gel Fabrication Technique for Vertical Coupled Waveguide
著者 (4件):
資料名:
巻:号: 2/3  ページ: 12-17  発行年: 2017年09月 
JST資料番号: L8216B  ISSN: 2189-0420  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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バルクシリコン上に多層が縦に積層される全ゾル-ゲル作製技術を平面導波路から3次元構造への縦結合を実現するために提案する。全ゾル-ゲル製造技術は,ZnOゾル-ゲルコア層と,SiO2ゾル-ゲル被覆及びコア分離槽を積層する機能を実現する。ゾル-ゲルに基づいた製造の主要な問題点は,ゾル-ゲル層上にクラックができることであり,これらは光レジスト除去器を用いたSiO2表面クリーニングに加えて,500°C温度のアニーリング後1°C/分のゆっくりした冷却過程により改善された。その結果,300nmのZnOコア層厚と1.5μmのSiO2被覆/コア分離層厚を持つ多層が縦に積層された構造をバルクSi上に製造することに成功した。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
分類
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光導波路,光ファイバ,繊維光学 
引用文献 (22件):
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