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J-GLOBAL ID：201702252660002078   整理番号：17A0808353

狭縫法狭縫法光源高輝度注入器エミッタンス測定システム【JST・京大機械翻訳】

Slit-based emittance measurement system for high-brightness injector at Hefei Light Source

資料名： Qiangjiguang yu Lizishu  (Qiangjiguang yu Lizishu)
巻： 24  号： 2  ページ： 457-462  発行年： 2012年 
JST資料番号： C2482A  ISSN： 1001-4322  CODEN： QYLIEL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 空間電荷効果により支配されるエミッタンスを測定するために,合肥光源高輝度注入器は狭縫法を用いて測定し,スリット法に基づくエミッタンス測定システムの構成を検討し,例として単一スリットとマルチスリットのエミッタンス測定システムへの応用を比較した。2つの測定法の結果は以下のことを示した。単狭縫法測定の結果はシミュレーション値に近く,子束団の間の重なりを効果的に避けることができ,適用範囲が広いことを示した。実験結果は以下を示す。240PCの電荷の下で,合肥光源の高輝度注入器は,より小さな正規化エミッタンスを持ち,(1.84±0.085)MM.MRADであった。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *計測システム ,  シミュレーション ,  *光源 ,  *注射器 ,  正規化 ,  *エミッタンス
準シソーラス用語： 空間電荷効果 ,  *高輝度 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： high brightness injector ,  emittance ,  phase space ,  beamlet ,  slit

分類 (2件)： 電子ビーム,イオンビーム  (BD02030F) ,  電子源,イオン源  (BD02020U)

タイトルに関連する用語 (5件)： 法 ,  高輝度 ,  注入器 ,  エミッタンス ,  測定システム