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J-GLOBAL ID：201702252703737710   整理番号：17A0478370

ナノスケールCu₂O膜 高周波マグネトロンスパッタリングと構造および光学的性質

Nanoscale Cu₂O Films: Radio-Frequency Magnetron Sputtering and Structural and Optical Studies

著者 (12件)： KUDRYASHOV D. A. (St. Petersburg National Res. Academic Univ., St. Petersburg, RUS) ,  GUDOVSKIKH A. S. (St. Petersburg National Res. Academic Univ., St. Petersburg, RUS) ,  GUDOVSKIKH A. S. (St. Petersburg State Electrotechnical Univ. LETI, St. Petersburg, RUS) ,  BABICHEV A. V. (Connector Optics LLC, St. Petersburg, RUS) ,  BABICHEV A. V. (St. Petersburg National Res. Univ. Information Technol., Mechanics, and Optics, St. Petersburg, RUS) ,  BABICHEV A. V. (Ioffe Physical-Technical Inst., Russian Acad. of Sci., St. Petersburg, RUS) ,  FILIMONOV A. V. (Connector Optics LLC, St. Petersburg, RUS) ,  MOZHAROV A. M. (St. Petersburg National Res. Academic Univ., St. Petersburg, RUS) ,  AGEKYAN V. F. (St. Petersburg State Univ., St. Petersburg, RUS) ,  BORISOV E. V. (St. Petersburg State Univ., St. Petersburg, RUS) ,  SEROV A. Yu. (St. Petersburg State Univ., St. Petersburg, RUS) ,  FILOSOFOV N. G. (St. Petersburg State Univ., St. Petersburg, RUS)
資料名： Semiconductors  (Semiconductors)
巻： 51  号： 1  ページ： 110-114  発行年： 2017年01月 
JST資料番号： T0093A  ISSN： 1063-7826  CODEN： SMICES  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マグネトロンスパッタリングによって,酸素なしの雰囲気の室温で酸化第一銅のナノ層をガラス状およびシリコンの基板上に生成し,その構造と光学的性質を調べた。シリコン基板上に形成された酸化第一銅はガラス状基板上の場合より無秩序の度合いが少ない。これはXRDパターンにおける高い反射強度と狭い半値幅によって確認された。透過率およびRamanスペクトルはバルクの立方Cu₂O結晶のスペクトルと矛盾しない。

シソーラス用語： *マグネトロンスパッタリング ,  *酸化第一銅 ,  *X線回折 ,  *透過率 ,  *Ramanスペクトル ,  ナノ構造 ,  超薄膜 ,  基板 ,  ガラス ,  ケイ素 ,  ナノシート
準シソーラス用語： ナノ層

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (4件)： ナノスケール ,  Cu2O ,  高周波マグネトロンスパッタリング ,  光学的性質