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J-GLOBAL ID：201702252771416402   整理番号：17A1670449

セラミック原料の研磨層の運動シミュレーション解析【JST・京大機械翻訳】

Dynamic Simulation of the Material Layer in Vertical Ceramic Mill

著者 (3件)： Dai Zhemin (景徳鎮陶瓷大学,江西 景徳鎮,333403) ,  Chen Longchao (景徳鎮陶瓷大学,江西 景徳鎮,333403) ,  Xie Qiuquan (景徳鎮陶瓷大学,江西 景徳鎮,333403)
資料名： Taoci Xuebao  (Taoci Xuebao)
巻： 38  号： 1  ページ： 92-95  発行年： 2017年 
JST資料番号： C3674A  ISSN： 1000-2278  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： セラミック粉の粉砕プロセスを分析し,粉砕効率に影響する主な要因を得た。研削盤における材料粒子の運動モデルを確立し,定常状態における材料層の状態をシミュレーションし,シミュレーション結果を分析することにより,研磨速度,材料流量,材料の高さ,研磨ディスクの傾斜角,および粉砕効率の影響因子を得た。回帰方程式を確立することによって,セラミック原料の設計と利用のための参照を提供することができた。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 研削盤 ,  流量 ,  *セラミック ,  傾斜角 ,  *シミュレーション ,  円板 ,  粉体 ,  *研磨
準シソーラス用語： 回帰式 ,  影響因子 ,  研磨速度 ,  定常状態 ,  運動モデル , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： vertical mill ,  grinding efficiency ,  dynamic ,  simulation

分類 (1件)： 研削  (QC03000R)

タイトルに関連する用語 (4件)： セラミック原料 ,  研磨層 ,  運動 ,  シミュレーション解析