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J-GLOBAL ID：201702252900015073   整理番号：17A0924719

塩化物溶液中の銅の腐食抑制剤としての2-アミノベンゾイミダゾールの初めての電気化学的および表面分析【Powered by NICT】

The first electrochemical and surface analysis of 2-aminobenzimidazole as a corrosion inhibitor for copper in chloride solution

著者 (2件)： Xhanari Klodian (University of Maribor, Faculty of Chemistry and Chemical Engineering, Smetanova ulica 17, 2000 Maribor, Slovenia. [e-mail]) ,  Finsgar MatjaZ
資料名： New Journal of Chemistry  (New Journal of Chemistry)
巻： 41  号： 15  ページ： 7151-7161  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0785A  ISSN： 1144-0546  CODEN： NJCHE5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 初めて,2-アミノベンゾイミダゾール(2 ABI)をサイクリックボルタンメトリー(CV),クロノポテンシオメトリー,電気化学インピーダンス分光法(EIS),および動電位曲線(PD)法を用いて25°Cで3wt%NaCl溶液中での銅の腐食抑制剤として試験した。EIS測定は2ABIの存在下でのCuの腐食は速度論及び拡散律速過程に従うことを示した。100hの浸漬の後,動電位曲線は2ABIは混合型抑制剤として作用し,アノード腐食反応に支配的な作用を持つことを示した。ATR-FTIRは,Cu表面は銅表面の疎水性を増加させた2ABIの吸着を確認し,その表面粗さを減少させた。Copyright 2018 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *窒素複素環化合物 ,  *塩化ナトリウム ,  水溶液 ,  *銅 ,  *腐食抑制剤 ,  *電気化学的挙動 ,  クロノポテンシオメトリー ,  スペクトロスコピー ,  サイクリックボルタンメトリー ,  電気化学インピーダンス ,  腐食速度 ,  拡散律速 ,  ATR分光法 ,  FTIR分光法 ,  表面粗さ ,  *表面分析 ,  電極電位
準シソーラス用語： ATR-FTIR分光法 ,  電気化学インピーダンス分光法

分類 (3件)： イミダゾール  (CF07083X) ,  電極過程  (CB07040U) ,  防食  (WB03040M)

物質索引 (1件)： 2-アミノベンゾイミダゾール

タイトルに関連する用語 (7件)： 塩化物 ,  溶液 ,  銅 ,  腐食抑制剤 ,  2-アミノベンゾイミダゾール ,  電気化学 ,  表面分析