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J-GLOBAL ID：201702252905824752   整理番号：17A1121448

多重波長と偏光状態における分散トポロジカル暗さ【Powered by NICT】

Dispersion Topological Darkness at Multiple Wavelengths and Polarization States

著者 (12件)： Song Haomin (Department of Electrical Engineering, The State University of New York at Buffalo, Buffalo, NY, 14260, USA) ,  Zhang Nan (Department of Electrical Engineering, The State University of New York at Buffalo, Buffalo, NY, 14260, USA) ,  Duan Jiyuan (Technical Center for Industrial Product and Raw Material Inspection and Testing, Entry-Exit Inspection and Quarantine Bureau, Shanghai, 200135, China) ,  Liu Zhejun (Material Science Department, Fudan University, Shanghai, 200433, China) ,  Gao Jun (Material Science Department, Fudan University, Shanghai, 200433, China) ,  Singer Matthew H. (Department of Electrical Engineering, The State University of New York at Buffalo, Buffalo, NY, 14260, USA) ,  Ji Dengxin (Department of Electrical Engineering, The State University of New York at Buffalo, Buffalo, NY, 14260, USA) ,  Cheney Alec R. (Department of Electrical Engineering, The State University of New York at Buffalo, Buffalo, NY, 14260, USA) ,  Zeng Xie (Department of Electrical Engineering, The State University of New York at Buffalo, Buffalo, NY, 14260, USA) ,  Chen Borui (Department of Electrical Engineering, The State University of New York at Buffalo, Buffalo, NY, 14260, USA) ,  Jiang Suhua (Material Science Department, Fudan University, Shanghai, 200433, China) ,  Gan Qiaoqiang (Department of Electrical Engineering, The State University of New York at Buffalo, Buffalo, NY, 14260, USA)
資料名： Advanced Optical Materials  (Advanced Optical Materials)
巻： 5  号： 12  ページ： null  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2486A  ISSN： 2195-1071  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 完全光吸収,急激な位相変化などを含むユニークな光学的特徴をもつ理想的な光学系における原理的に達成可能である反射の完全な抑制が,通常の光学系は,薄膜またはパターンの製作誤差あるいは固有の粗さに及ぼす非常に厳しい公差を持っている。,実際に完全な無反射条件を実現することは困難である。この課題を克服するために,膜品質への温和な制約のある「トポロジカル暗所」の概念を周期的金属パターンと自己組織化コア-シェル粒子を用いて提案した。トポロジー効果のために,無反射表面のロバストな性質は欠陥の存在でさえも劇的に改善された。ここで「温和な」制限はさらに破壊直接堆積した薄膜またはランダムな金属ナノ粒子を用いた無反射薄膜システムを実現することである。さらに,トップ吸収層の有効光学定数を調整することによって達成される広い吸収バンド。注目すべきことに,単一偏光状態と波長下で従来の無反射現象と比較して,システムを同一チップ上に両偏光状態のための多波長零反射点を実現することができる。これらの概念証明実験の結果は超薄膜システム内の無標識光センシングと増強された光-物質相互作用のための急激な相変化と完全な光吸収を用いた実用的なアプリケーションの開発への道を開く。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 品質 ,  超薄膜 ,  薄膜 ,  *多重化 ,  相転移 ,  光学定数 ,  光吸収 ,  ロバスト性 ,  *波長 ,  吸収バンド ,  自己組織化 ,  位相シフト ,  *偏光 ,  光学系
準シソーラス用語： 金属ナノ粒子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 偏光解析 ,  ナノスケールセンシング ,  nanostructures ,  光相 ,  トポロジカルフォトニクス

分類 (3件)： 偏光測定と偏光計  (BD07050K) ,  偏光,複屈折,光学回転  (BD03040X) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 多重 ,  波長 ,  偏光 ,  暗さ