文献
J-GLOBAL ID:201702253240932429
整理番号:17A1141767
二元同時スパッタを用いたSi含有DLC膜の成膜
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著者 (4件):
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資料名:
巻:
78th
ページ:
ROMBUNNO.8a-PA1-16
発行年:
2017年08月25日
JST資料番号:
Y0055B
ISSN:
2758-4704
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
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その他の無機化合物の薄膜
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