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J-GLOBAL ID：201702253282415936   整理番号：17A0398884

中性子反射測定及びXPSを用いて調べた分子レベルでの炭化水素溶液中の銅の腐食と阻害【Powered by NICT】

Corrosion and inhibition of copper in hydrocarbon solution on a molecular level investigated using neutron reflectometry and XPS

著者 (5件)： Welbourn Rebecca J.L. (Department of Chemistry and BP Institute, University of Cambridge, UK) ,  Truscott C.L. (Department of Chemistry and BP Institute, University of Cambridge, UK) ,  Skoda M.W. A. (ISIS Neutron and Muon Source, STFC, Harwell Oxford, UK) ,  Zarbakhsh A. (Department of Chemistry, Queen Mary University, London, UK) ,  Clarke S.M. (Department of Chemistry and BP Institute, University of Cambridge, UK)
資料名： Corrosion Science  (Corrosion Science)
巻： 115  ページ： 68-77  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0135B  ISSN： 0010-938X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 銅(II)酸化物に富む銅表面へ油から吸着した三有機添加物の挙動と分子構造を示した。硫黄への曝露による酸化銅表面の腐食を防止するためのこれらの三剤の能力の変動も含まれている。可視観察,X線光電子分光法(XPS)および中性子反射(NR)の組み合わせによって,吸着層と下地の銅酸化物の両方を特性化した。モデル添加剤は銅の「有効」,「中間」と「無効」阻害剤を代表するように選定した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： X線光電子分光法 ,  分子構造 ,  *銅 ,  硫黄 ,  下地 ,  酸化物 ,  酸化銅 ,  *中性子反射 ,  キャラクタリゼーション ,  添加剤
準シソーラス用語： 阻害剤 ,  吸着層 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： A銅 ,  A有機被覆 ,  B XPS ,  C酸化 ,  C酸化物コーティング

分類 (1件)： 防食  (WB03040M)

タイトルに関連する用語 (8件)： 中性子反射 ,  XPS ,  分子 ,  炭化水素 ,  溶液 ,  銅 ,  腐食 ,  阻害