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J-GLOBAL ID：201702253369766876   整理番号：17A0076691

WO_3薄膜の構造と光触媒性能を研究した。【JST・京大機械翻訳】

Studies on the structure and photocatalytic activity of WO_3 thin films prepared by DC reactive magnetron sputtering

著者 (2件)： Zhu Hailing (Department of Physics and Optoelectronic Engineering, Weifang University) ,  Tang Yanyan (Department of Physics and Optoelectronic Engineering, Weifang University)
資料名： Gongneng Cailiao  (Gongneng Cailiao)
巻： 47  号： 8  ページ： 8164-8168  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2095A  ISSN： 1001-9731  CODEN： GOCAEA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： WO_3薄膜を,DC反応性マグネトロンスパッタリングによって,石英基板上に蒸着し,そして,WO_3薄膜の構造および特性に及ぼすスパッタリングパラメータの影響を,調査し,そして,膜のフォトクロミックおよび光触媒性能の間の固有の相関を,解析した。XRD,SEM,UV-VISおよびUV-VIS-NIRを用いて,WO_3薄膜の結晶構造,表面形態,光学的特性および光触媒特性を解析し,その結果,WO_3薄膜のフォトクロミック効果が異なることを示した。膜の光触媒活性は,より良い変色効果を示した。熱処理はWO_3薄膜のフォトクロミック特性の消失と光触媒活性の低下をもたらし,未処理のWO_3は最高の光触媒活性を示した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *触媒活性 ,  結晶構造 ,  変色 ,  光学的性質 ,  *薄膜 ,  熱処理
準シソーラス用語： 光触媒活性 ,  触媒特性 ,  表面形態 ,  フォトクロミック ,  石英基板 ,  反応性マグネトロンスパッタリング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： WO_3 thin film ,  magnetron sputtering ,  photocatalysis ,  photochromism

分類 (1件)： その他の光学的効果  (BM08040H)

タイトルに関連する用語 (3件)： 薄膜 ,  触媒性能 ,  研究