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J-GLOBAL ID：201702253639470147   整理番号：17A0629448

透過電子顕微鏡法による照射誘起構造変化の解析

著者 (1件)： 石丸学 (九州工大 大学院工学研究院)
資料名： 顕微鏡  (Microscopy)
巻： 52  号： 1  ページ： 24-28  発行年： 2017年04月30日 
JST資料番号： Y0541A  ISSN： 1349-0958  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 照射場を利用した材料創製では,通常の手法では得ることが難しい平衡状態から離れた準安定構造を実現することが出来る。また,機能性材料および構造用材料の照射誘起構造変化に関する研究は,宇宙空間や原子炉等の極限環境下で使用される材料の信頼性を知る上で重要である。本稿では,照射場と材料の相互作用による構造変化およびそれを利用した材料創製に関する最近の研究成果について報告する。準安定構造の形成に関しては,イオン照射アルミナの熱処理過程において見出された,通常の熱処理では起こらないコランダム→スピネル型構造相変態について報告する。一方,耐照射性材料の開発に関する一連の研究では,ナノ構造制御により炭化ケイ素の耐照射性を向上させた例について紹介する。(著者抄録)

シソーラス用語： 変化 ,  *アルミナ ,  *イオン照射 ,  *電子顕微鏡観察 ,  *透過型電子顕微鏡 ,  制限視野回折 ,  ナノ構造 ,  *照射損傷 ,  相変態 ,  準安定相
準シソーラス用語： 構造変化 ,  固相変態

分類 (2件)： 放射線による構造と物性の変化一般  (BK16121W) ,  顕微鏡法  (BK01040E)

引用文献 (33件)：

• Ishimaru, M., Afanasyev-Charkin, I.V. and Sickafus, K.E.: Appl. Phys. Lett., 76, 2556-2558 (2000)
• Ishimaru, M., Hirotsu, Y., Li, F. and Sickafus, K.E.: Appl. Phys. Lett., 77, 4151-4153 (2000)
• Ishimaru, M., Bae, I.-T., Hirotsu, Y., Matsumura, S. and Sickafus, K.E.: Phys. Rev. Lett., 89, 055502 (4 pages) (2002)
• Ishimaru, M., Bae, I.-T. and Hirotsu, Y.: Phys. Rev. B, 68, 144102 (4 pages) (2003)
• Ishimaru, M., Bae, I.-T., Hirata, A., Hirotsu, Y., Valdez, J.A. and Sickafus, K.E.: Phys. Rev. B, 72, 024116 (7 pages) (2005)

タイトルに関連する用語 (5件)： 透過 ,  電子顕微鏡法 ,  誘起 ,  構造変化 ,  解析