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J-GLOBAL ID：201702253866424204   整理番号：17A1626312

グラフェンGaAsヘテロ構造におけるプラズモンモード【Powered by NICT】

Plasmon modes in graphene-GaAs heterostructures

著者 (3件)： Van Men Nguyen (University of An Giang, 18-Ung Van Khiem Street, Long Xuyen, An Giang, Viet Nam) ,  Van Men Nguyen (University of Science - VNUHCM, 227-Nguyen Van Cu Street, 5th District, Ho Chi Minh City, Viet Nam) ,  Khanh Nguyen Quoc (University of Science - VNUHCM, 227-Nguyen Van Cu Street, 5th District, Ho Chi Minh City, Viet Nam)
資料名： Physics Letters. A  (Physics Letters. A)
巻： 381  号： 44  ページ： 3779-3784  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0600B  ISSN： 0375-9601  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 零温度は層間トンネリングで二層グラフェンとGaAs量子井戸,距離dによって分離された,から成る二重層系における集団励起のプラズモン分散関係と減衰率を研究した。ランダム位相近似誘電関数を使用し,システムの誘電体バックグラウンドの不均質性を考慮した。プラズモン振動数と減衰速度は,接触媒体の層間相関パラメータ,電子密度および誘電定数にかなり依存することを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： トンネル効果 ,  *グラフェン ,  ランダム位相近似 ,  量子井戸 ,  誘電体 ,  集団励起 ,  電子密度 ,  誘電関数 ,  *プラズモン ,  不均一性 ,  *ヒ化ガリウム ,  誘電率 ,  分散関係
準シソーラス用語： 二層グラフェン ,  *ヘテロ構造 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： グラフェン ,  プラズモン ,  集団励起

分類 (1件)： 気体放電  (BJ03020T)

タイトルに関連する用語 (4件)： グラフェン ,  GaAs ,  ヘテロ構造 ,  プラズモンモード