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J-GLOBAL ID：201702254336064248   整理番号：17A0368156

レサズリンベース光触媒活性インキの還元の速度論【Powered by NICT】

Kinetics of reduction of a resazurin-based photocatalytic activity ink

著者 (4件)： Mills Andrew (School of Chemistry and Chemical Engineering, Queens University, Stranmillis Road, Belfast, BT95AG, United Kingdom) ,  Wells Nathan (School of Chemistry and Chemical Engineering, Queens University, Stranmillis Road, Belfast, BT95AG, United Kingdom) ,  MacKenzie John (Department of Mathematics and Statistics, 16 Richmond Street, Glasgow, G1 1XQ, United Kingdom) ,  MacDonald Grant (Department of Mathematics and Statistics, 16 Richmond Street, Glasgow, G1 1XQ, United Kingdom)
資料名： Catalysis Today  (Catalysis Today)
巻： 281  号： P1  ページ： 14-20  発行年： 2017年 
JST資料番号： T0363A  ISSN： 0920-5861  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 自己洗浄ガラス,Activの市販試料に,paii,レサズリン,Rz,ベースの光触媒活性指示インクの還元の速度論を検討した;後者は活性な光触媒層として機能するアナターゼTiO_2の15nmの緻密な被覆約を持っている。染料還元の速度は雰囲気O_2の存在によって著しく減少した。O_2が存在しない場合,dΔAbs/dt,Rzによる膜の吸光度の測定した変化は[Rz]と膜厚の両方,bに依存しないことが分かった。これは染料還元速度に相当することが示されている,d[Rz]/dt,インク膜におけるRzの濃度に依存しない,[Rz],膜厚に逆比例し,b観察された速度は,律速段階は光生成表面電子による光触媒表面に吸着したRzの還元は速度論モデルの観点から説明し,Rzによって占有された全ての光触媒表面部位であった。更なる研究が,Rz paiiの光触媒還元の反応速度は拡散律速であったならば,[Rz]の減衰は一次であるとb~ 2に依存することを示唆した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 染料 ,  律速 ,  拡散律速 ,  吸光度 ,  *速度論 ,  光生成 ,  *光触媒 ,  膜厚 ,  アナターゼ ,  反応速度
準シソーラス用語： 光触媒還元 ,  還元速度 ,  自己洗浄 ,  *光触媒活性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： レサズリン ,  レゾルフィン ,  展望 ,  Kinetics ,  包装

分類 (2件)： 光化学反応  (CB08020F) ,  光化学一般  (CB08010U)

物質索引 (1件)： レサズリン

タイトルに関連する用語 (5件)： レサズリン ,  光触媒活性 ,  インキ ,  還元 ,  速度論