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J-GLOBAL ID：201702254520517794   整理番号：17A1723529

フェムト秒レーザ直接描画における3次元重合特性の偏光制御【Powered by NICT】

Polarization control of 3D polymerised features in femtosecond direct laser writing

著者 (4件)： Rekstyte Sima (Laser Research Center, Department of Quantum Electronics, Vilnius University, Sauletekio Ave. 10, LT-10223 Vilnius, Lithuania) ,  Gailevicius Darius (Laser Research Center, Department of Quantum Electronics, Vilnius University, Sauletekio Ave. 10, LT-10223 Vilnius, Lithuania) ,  Malinauskas Mangirdas (Laser Research Center, Department of Quantum Electronics, Vilnius University, Sauletekio Ave. 10, LT-10223 Vilnius, Lithuania) ,  Juodkazis Saulius (Center for Micro-Photonics, Swinburne University of Technology, Hawthorn, VIC 3122, Australia)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： CLEO/Europe-EQEC  ページ： 1  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： レーザ直接描画3次元ナノリソグラフィーは広範囲の科学的及び産業的応用[1]の微細構造を作製するための一般的な技術である。しかし,重合体の光支援添加剤製造における偏光制御の系統的研究はまだ限られている。ナノ格子によるガラスパターン化において,偏光制御した光学異方性[2]の局所形状複屈折とパターン形成を定めるために必須である。ここでは,直接レーザ書込の重合に及ぼす偏光の影響を明らかにした。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *三次元 ,  微細構造 ,  *重合 ,  *レーザ ,  複屈折 ,  *偏光 ,  重合体 ,  *フェムト秒 ,  ガラス ,  パターン形成
準シソーラス用語： 光学異方性 ,  ナノ格子 ,  ナノリソグラフィー ,  *偏光制御 ,  *レーザ直接描画 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： フェムト秒レーザ ,  直接描画 ,  3次元 ,  重合 ,  偏光制御