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J-GLOBAL ID：201702254630752429   整理番号：17A1380925

Xeイオンを照射したZrN,Si_3N_4とZrN/SiN_xナノスケール膜の微細構造の特徴【Powered by NICT】

Features of microstructure of ZrN, Si₃N₄ and ZrN/SiN_x nanoscale films irradiated by Xe ions

著者 (13件)： Uglov V.V. (Belarusian State University, Minsk 220030, Nezavisimosti Ave., 4, Belarus) ,  Uglov V.V. (Tomsk Polytechnic University, Tomsk 634028, Lenina Ave., 2a, Russia) ,  Uglov V.V. (National Research Nuclear University “MEPhI” (Moscow Engineering Physics Institute), Moscow 115409, Kashirskoe Highway, 31, Russia) ,  Abadias G. (Institut Pprime, Universite de Poitiers-CNRS-ENSMA, Dpt. Physique et Mecanique des Materiaux, SP2MI, Teleport 2, F86962 Chasseneuil-Futuroscope cedex, France) ,  Zlotski S.V. (Belarusian State University, Minsk 220030, Nezavisimosti Ave., 4, Belarus) ,  Saladukhin I.A. (Belarusian State University, Minsk 220030, Nezavisimosti Ave., 4, Belarus) ,  Safronov I.V. (Belarusian State University, Minsk 220030, Nezavisimosti Ave., 4, Belarus) ,  Shymanski V.I. (Belarusian State University, Minsk 220030, Nezavisimosti Ave., 4, Belarus) ,  Shymanski V.I. (Tomsk Polytechnic University, Tomsk 634028, Lenina Ave., 2a, Russia) ,  Janse van Vuuren A. (Centre for HRTEM, Nelson Mandela Metropolitan University, 6031 Port Elizabeth, South Africa) ,  O’Connell J. (Centre for HRTEM, Nelson Mandela Metropolitan University, 6031 Port Elizabeth, South Africa) ,  Skuratov V. (Joint Institute for Nuclear Research, Dubna 141980, Moscow Region, Joliot-Curie 6, Russia) ,  Neethling J.H. (Centre for HRTEM, Nelson Mandela Metropolitan University, 6031 Port Elizabeth, South Africa)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 143  ページ： 491-494  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マグネトロンスパッタリングにより蒸着したZrN,Si_3N_4モノリシック膜とZrN/SiN_x多層膜のXe照射(360keV,5×10~16cm~ 2)後のミクロ組織特徴のTEM研究について報告した。,Xeイオンを照射したZrNナノ結晶膜のTEM研究の結果は,この膜は注入にほとんど影響されないと考えられることを示した。少量損傷のみが観察された。SiN_x非晶質膜,Xeイオンによる照射では,大きな(最大40nm)及び小(~5 nm)気泡の多くが見出された。最大放射損傷に対応する深さで注入したキセノン(大きな気泡の形成)の蓄積を明らかにした。多層膜の場合には,注入範囲に近い結晶ZrN非晶質SiN_x層の境界は注入イオンの最大エネルギー放出領域における不鮮明されていることが分かった。小気泡はSiN_x非晶質層に見られるそれらは層の中央に位置している。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： ナノ結晶 ,  照射損傷 ,  *微細構造 ,  多層 ,  小規模 ,  *キセノン ,  結晶 ,  マグネトロンスパッタリング ,  *イオン ,  非晶質 ,  多層膜 ,  気泡
準シソーラス用語： 非晶質膜 ,  *ナノスケール , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： Microstructure ,  マグネトロンスパッタリング ,  イオン照射 ,  Xeバブル ,  多層

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  その他の物質の放射線による構造と物性の変化  (BK16124V)

タイトルに関連する用語 (4件)： Xe ,  イオン ,  ナノスケール ,  微細構造