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J-GLOBAL ID:201702254978299021   整理番号:17A1076868

RFスパッターZnO薄膜の,構造,モルフォロジ,光学,導波路特性に与える,厚さ,アニーリング,基板の効果

Thickness, annealing and substrate effects on structural, morphological, optical and waveguiding properties of RF sputtered ZnO thin films
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巻: 28  号: 16  ページ: 12207-12219  発行年: 2017年08月 
JST資料番号: W0003A  ISSN: 0957-4522  CODEN: JMTSAS  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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厚さの異なるZnO薄膜をRFマグネトロンスパッタリングでガラスとSiO2/Si基板に制作し,膜厚,ポストデポジションアニーリング,基板の種類が構造,モルフォロジ,光学,導波路特性に与える効果を調べた。すべてのZnO薄膜は六方晶ウルツ鉱構造であり,(002)に優先配向している。薄膜の構造特性は基板タイプに影響され,膜厚とアニーリング温度で改善される。SiO2/Si基板にデポジットしたZnO薄膜の方がガラス上のものよりも結晶性が良く,結晶サイズが大きくて圧縮応力が小さい。UV-Vis透過率は膜厚に拘わらずアニーリング温度で増加する。結晶サイズが6から19.3nmになると光学バンドギャップは3.22から3.28eVに増加し,圧縮応力は6.86から0.08GPaに減少する。波長632.8nmでのMライン分光測定で,ZnO平面導波路は単一および多重井戸閉じ込めTEとTM導波モードをサポートする。薄膜の屈折率は膜厚や基板種類に関係していない。SiO2/Si基板で60分成長したZnO平面導波路の伝搬損失は1.3±0.2dB/cmである。
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分類 (1件):
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固体デバイス材料 

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