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J-GLOBAL ID：201702255096050896   整理番号：17A1138739

大気条件における化学気相堆積二硫化タングステン結晶の規則的劣化パターン形成

Formation of regular degradation patterns in chemical vapor deposited tungsten disulfide crystals under ambient condition

著者 (3件)： MAHYAVANSHI Rakesh (Nagoya Inst. of Tech.) ,  KALITA Golap (Nagoya Inst. of Tech.) ,  TANEMURA Masaki (Nagoya Inst. of Tech.)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 78th  ページ： ROMBUNNO.5p-PA1-6  発行年： 2017年08月25日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *タングステン化合物 ,  *多硫化物 ,  *結晶 ,  *化学蒸着 ,  *劣化 ,  安定性 ,  大気 ,  画像 ,  Ramanスペクトル ,  X線光電子分光法 ,  Augerスペクトル ,  カプセル封じ ,  過程
準シソーラス用語： *二硫化タングステン ,  *化学気相堆積 ,  大気条件 ,  SEM画像 ,  カプセル化【物質】 ,  劣化過程

分類 (3件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  半導体の赤外スペクトル及びRaman散乱・Ramanスペクトル  (BM08066B) ,  電子分光スペクトル  (BM09060K)

タイトルに関連する用語 (6件)： 大気条件 ,  化学気相堆積 ,  硫化タングステン ,  結晶 ,  規則 ,  パターン形成